[发明专利]电感结构在审
| 申请号： | 201811107158.3 | 申请日： | 2018-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN110943072A | 公开（公告）日： | 2020-03-31 |
| 发明（设计）人： | 廖健男;苏泊沅;张睿钧 | 申请（专利权）人： | 世界先进积体电路股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/64 | 分类号： | H01L23/64 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 王天尧;任默闻 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电感 结构 | ||
1.一种电感结构，其特征在于，包括：
一基板；
一第一介电层，形成于该基板上；
一第一金属层，形成于该第一介电层中；
一第二介电层，形成于该第一介电层上；
一第二金属层，形成于该第二介电层中，其中该第一金属层与该第二金属层为连续金属层；
至少一中间介电层，形成于该第一介电层与该第二介电层之间；
至少一中间金属层，形成于该至少一中间介电层中，其中该至少一中间金属层为图案化金属层；以及
多个通孔，连接该第一金属层与该至少一中间金属层，以及连接该第二金属层与该至少一中间金属层，其中该第一金属层、该通孔、该至少一中间金属层、该通孔、该第二金属层、该通孔、以及该至少一中间金属层形成一延伸路径，该延伸路径以该第一金属层为一延伸起点，依逆时针螺旋方式延伸。
2.如权利要求1所述的电感结构，其特征在于，该第一金属层、该第二金属层、与该至少一中间金属层的长度介于1um～100um。
3.如权利要求1所述的电感结构，其特征在于，该第一金属层、该第二金属层、与该至少一中间金属层的厚度介于0.01um～4um。
4.如权利要求1所述的电感结构，其特征在于，该第一金属层、该第二金属层、与该至少一中间金属层的宽度介于0.01um～100um。
5.如权利要求1所述的电感结构，其特征在于，该至少一中间金属层的该图案化金属层的间距介于0.01um～10um。
6.如权利要求1所述的电感结构，其特征在于，该至少一中间介电层为单层中间介电层，以及该至少一中间金属层为单层中间金属层。
7.如权利要求1所述的电感结构，其特征在于，该至少一中间介电层为双层中间介电层，以及该至少一中间金属层为双层中间金属层。
8.如权利要求7所述的电感结构，其特征在于，更包括多个通孔，连接不同层的所述中间金属层。
9.如权利要求1所述的电感结构，其特征在于，该至少一中间介电层为三层中间介电层，以及该至少一中间金属层为三层中间金属层。
10.如权利要求9所述的电感结构，其特征在于，更包括多个通孔，连接不同层的所述中间金属层。
11.一种电感结构，其特征在于，包括：
一基板；
一第一介电层，形成于该基板上；
一第一金属层，形成于该第一介电层中；
一第二介电层，形成于该第一介电层上；
一第二金属层，形成于该第二介电层中，其中该第一金属层与该第二金属层为连续金属层；
至少一中间介电层，形成于该第一介电层与该第二介电层之间；
至少一中间金属层，形成于该至少一中间介电层中，其中该至少一中间金属层为图案化金属层；以及
多个通孔，连接该第一金属层与该至少一中间金属层，以及连接该第二金属层与该至少一中间金属层，其中该第一金属层、该通孔、该至少一中间金属层、该通孔、该第二金属层、该通孔、以及该至少一中间金属层形成一延伸路径，该延伸路径以该第一金属层为一延伸起点，依顺时针螺旋方式延伸。
12.如权利要求11所述的电感结构，其特征在于，该第一金属层、该第二金属层、与该至少一中间金属层的长度介于1um～100um。
13.如权利要求11所述的电感结构，其特征在于，该第一金属层、该第二金属层、与该至少一中间金属层的厚度介于0.01um～4um。
14.如权利要求11所述的电感结构，其特征在于，该第一金属层、该第二金属层、与该至少一中间金属层的宽度介于0.01um～100um。
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