[发明专利]具有金属柱的多腔室封装结构及其制作方法在审
申请号: | 201810911218.0 | 申请日: | 2018-08-10 |
公开(公告)号: | CN109087909A | 公开(公告)日: | 2018-12-25 |
发明(设计)人: | 付伟 | 申请(专利权)人: | 付伟 |
主分类号: | H01L25/07 | 分类号: | H01L25/07;H01L25/16;H01L21/56 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 沈晓敏 |
地址: | 215123 江苏省苏州市工业园*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 封装结构 第三电极 互连结构 金属柱 电极 芯片 腔室 滤波器芯片 封装基板 多腔室 放大器 滤波器 滤波器及放大器 放大器芯片 基板利用率 第二电极 第二腔室 第一电极 第一腔室 高度集成 间隔分布 上下分布 芯片封装 轻薄 互连 导通 基板 内嵌 同侧 制作 | ||
1.一种具有金属柱的多腔室封装结构,其特征在于,包括:
封装基板,具有相对设置的基板上表面及基板下表面,且所述封装基板具有间隔分布的第一腔室、第二腔室及第三腔室;
第一滤波器芯片,位于所述第一腔室,所述第一滤波器芯片具有相对设置的第一上表面及第一下表面,所述第一上表面与所述基板上表面位于同侧,且所述第一上表面具有若干第一电极;
第二滤波器芯片,位于所述第二腔室,所述第二滤波器芯片具有相对设置的第二上表面及第二下表面,所述第二上表面与所述基板上表面位于同侧,且所述第二上表面具有若干第二电极;
放大器芯片,位于所述第三腔室,所述放大器芯片具有相对设置的第三上表面及第三下表面,所述第三上表面与所述基板上表面位于同侧,且所述第三上表面具有若干第三电极;
RF开关芯片,设置于所述封装基板的上方,所述RF开关芯片具有相对设置的第四上表面及第四下表面,所述第四下表面与所述基板上表面面对面设置,且所述第四上表面具有若干第四电极;
若干互连结构,用于导通若干第一电极、若干第二电极、若干第三电极及若干第四电极,其中,所述互连结构包括金属柱,所述金属柱用于实现所述第四电极与所述第一电极、所述第二电极、所述第三电极的至少其中之一之间的互连。
2.根据权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述基板下表面的一侧具有若干外部引脚,所述封装基板具有若干通孔,所述互连结构通过所述通孔而导通若干第一电极、若干第二电极、若干第三电极及若干外部引脚。
3.根据权利要求2所述的封装结构,其特征在于,所述互连结构还包括电镀层结构,所述电镀层结构导通所述第一电极、所述第二电极及所述第三电极,且所述电镀层结构通过所述通孔延伸至所述封装基板的下方而导通所述外部引脚,且所述电镀层结构配合金属柱而实现第四电极与所述第一电极、所述第二电极、所述第三电极的至少其中之一之间的互连。
4.根据权利要求3所述的封装结构,其特征在于,所述金属柱包括第一金属柱及第二金属柱,所述第一金属柱位于所述第四电极的上方,所述电镀层结构包括相互导通的顶部重布线层、上重布线层、中间布线层及下重布线层,所述顶部重布线层用于导通所述第一金属柱及所述第二金属柱,所述上重布线层位于所述封装基板的上方并导通所述第一电极、所述第二电极、所述第三电极及所述第二金属柱,所述下重布线层位于所述封装基板的下方并导通所述外部引脚,所述中间布线层包括相连的位于所述基板上表面的第一电镀层、位于所述通孔内壁的第二电镀层及位于所述基板下表面下方的第三电镀层,所述第一电镀层连接所述上重布线层,所述第三电镀层连接所述下重布线层。
5.根据权利要求4所述的封装结构,其特征在于,所述封装结构包括第一绝缘层及第二绝缘层,所述第一绝缘层位于所述第三电镀层及基板下表面、第一下表面、第二下表面、第三下表面下方,所述下重布线层经过所述第一绝缘层上的孔洞导通所述第三电镀层并往所述第一绝缘层的下表面方向延伸,所述外部引脚连接所述下重布线层,所述第二绝缘层包覆所述第一绝缘层及所述下重布线层,且所述第二绝缘层暴露所述外部引脚。
6.根据权利要求4所述的封装结构,其特征在于,所述封装结构包括第三绝缘层及第四绝缘层,所述第三绝缘层位于所述基板上表面、第一上表面、第二上表面、第三上表面的上方,且所述第三绝缘层填充所述通孔,所述上重布线层经过所述第三绝缘层上的孔洞导通所述第一电镀层、所述第一电极、所述第二电极及所述第三电极,所述第四绝缘层连接所述第三绝缘层及所述第四下表面,所述第四绝缘层具有开槽,所述开槽暴露出所述上重布线层而供所述第二金属柱连接。
7.根据权利要求6所述的封装结构,其特征在于,所述第三绝缘层及所述第四绝缘层配合形成围堰,所述围堰与所述第四下表面及所述第一上表面配合而围设形成第一空腔,且所述围堰与所述第四下表面及所述第二上表面配合而围设形成第二空腔。
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