[发明专利]一种基于micro LED技术的新型微显示器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810640666.1 申请日: 2018-06-14
公开(公告)号: CN108711576A 公开(公告)日: 2018-10-26
发明(设计)人: 邢彦文;李传南;许桂林;张海明;向浩 申请(专利权)人: 邢彦文;许桂林;向浩
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L33/44;H01L33/00;G09F9/33
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200437 上海市虹*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 制备 微显示器件 电极层 石墨烯 硅基 像素驱动电路 像素单元 防护层 平整层 衬底 防眩 制造 集成电路设计 微型化 石墨烯薄膜 石墨烯材料 单独驱动 高透光率 工艺制作 硅基晶圆 技术指标 模组封装 直接形成 产业化 微米级 上层 芯片 测试 图像 分割
【权利要求书】:

1.一种基于micro LED技术的新型微显示器件,其特征在于:所述新型微显示器件针对产品应用特征,采用硅基+micro LED的结构,根据芯片设计,在硅基上直接形成像素驱动电路,然后在上层制备微型化的micro LED阵列,形成一个个的像素单元,每个像素单元单独驱动以形成图像。

2.根据权利要求1所述的一种基于micro LED技术的新型微显示器件,其特征在于,所述像素单元从下向上依次为单晶硅层、CMOS像素驱动电路层、平整层、电极层、RGB microLED层以及石墨烯防眩防护层,最底层为单晶硅层,表层为石墨烯防眩防护层。

3.根据权利要求2所述的一种基于micro LED技术的新型微显示器件,其特征在于,所述电极层为采用化学CVD、等离子等设备工艺技术在硅基上直接生成的石墨烯薄膜。

4.根据权利要求2所述的一种基于micro LED技术的新型微显示器件,其特征在于,所述石墨烯防眩防护膜为直接生成的高透光率石墨烯薄膜。

5.一种基于micro LED技术的新型微显示器件的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:

A)集成电路设计;

B)硅基晶圆制备;

C)在硅基上采用CMOS集成电路工艺制作像素驱动电路,形成衬底;

D)在衬底上制备平整层;

E)在平整层上方制备石墨烯电极层;

F)在石墨烯电极层上制备微米级micro LED阵列;

G)采用高透过率石墨烯薄膜制备石墨烯防眩防护层;

H)芯片分割、测试、模组封装及引线。

6.根据权利要求5所述的一种基于micro LED技术的新型微显示器件的制造方法,其特征在于,所述步骤F)具体包括:

F1)采用传统的LED工艺和缩微阵列技术做好RGB阵列,所制作的微显示器件用于高亮度产品;

F2)采用先做好微米级蓝光LED阵列,然后利用绿光和红光转换材料,通过平面工艺涂覆和刻蚀设备工艺实现RGB micro LED阵列,做好转换方式的微显示器,用于相对低亮度的产品。

7.根据权利要求5所述的一种基于micro LED技术的新型微显示器件的制造方法,其特征在于,所述步骤H)具体包括:

H1)芯片分割、测试、多引线焊接,传统方形模组封装;

H2)芯片分割、测试、挠性引线式焊接、封装。

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