[发明专利]导电膜、电容式触摸屏和导电膜的制作方法有效

专利信息
申请号: 201810433319.1 申请日: 2018-05-08
公开(公告)号: CN108628503B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 李文;李兆勇;任小勇 申请(专利权)人: 张家港康得新光电材料有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 韩建伟;谢湘宁
地址: 215634 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 导电 电容 触摸屏 制作方法
【说明书】:

发明提供了一种导电膜、电容式触摸屏和导电膜的制作方法,其中,导电膜包括导电膜本体、刻蚀图案和防短路图形,导电膜本体上通过激光刻蚀形成刻蚀图案;刻蚀图案包括多条刻蚀线,导电膜本体包括多个分步刻蚀区域;防短路图形跨越至少两个分步刻蚀区域,且分别位于相邻两个分步刻蚀区域内的两条相对应的刻蚀线通过一个防短路图形相连接。本发明解决了现有技术中导电膜的位于两个分步刻蚀区域内的两条刻蚀线的连接处容易发生偏移,导致两条刻蚀线未成功连接,从而造成导电膜短路,进而使得导电膜无法实现触摸功能的问题。

技术领域

本发明涉及触控技术领域,具体而言,涉及一种导电膜、电容式触摸屏和导电膜的制作方法。

背景技术

电容式触摸屏因其具有触摸点击灵敏和响应时间快的特点,现已广泛应用在手机、平板电脑中。为了更好地将电容式触摸屏应用在企业会议、商业广告、教育教学、会展展示中,需要大尺寸的电容式触摸屏,相应地,要求用于制作电容式触摸屏的导电膜的尺寸尽可能地大,即需要在导电膜本体上激光刻蚀大尺寸的刻蚀图案以形成导电膜。

但现有技术中,激光刻蚀的平台面积有限,如果增加激光刻蚀的平台面积,会极大地增加制作导电膜的经济成本。因此,在制作大尺寸的导电膜时,需要先将导电膜本体进行分步刻蚀区域的划分,之后依次在各分步刻蚀区域内通过激光刻蚀出多条刻蚀线,多条刻蚀线共同形成刻蚀图案;但位于两个分步刻蚀区域内的两条刻蚀线的连接处容易发生偏移,导致两条刻蚀线未成功连接,从而造成导电膜短路,进而使得导电膜无法实现触摸功能。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种导电膜、电容式触摸屏和导电膜的制作方法,以解决现有技术中的导电膜的位于两个分步刻蚀区域内的两条刻蚀线的连接处容易发生偏移,导致两条刻蚀线未成功连接,从而造成导电膜短路,进而使得导电膜无法实现触摸功能的问题。

为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种导电膜,包括:导电膜本体,导电膜本体上通过激光刻蚀形成刻蚀图案;刻蚀图案包括多条刻蚀线,导电膜本体包括多个分步刻蚀区域;防短路图形,防短路图形通过激光刻蚀形成在导电膜本体上,防短路图形跨越至少两个分步刻蚀区域,且分别位于相邻两个分步刻蚀区域内的两条相对应的刻蚀线通过一个防短路图形相连接。

进一步地,防短路图形呈环形,呈环形的防短路图形围成容置区域,刻蚀线与防短路图形连接,或刻蚀线延伸至容置区域内。

进一步地,防短路图形为矩形环,且防短路图形的边长大于等于0.1mm且小于等于1mm。

进一步地,防短路图形为呈矩形的刻蚀图形,刻蚀线与刻蚀图形连接。

进一步地,防短路图形为呈正方形的刻蚀图形,呈正方形的刻蚀图形的边长大于等于0.1mm且小于等于1mm。

进一步地,导电膜本体包括四个分步刻蚀区域,四个分步刻蚀区域相拼接,位于各分步刻蚀区域内的部分刻蚀图案所占据的范围的最大长度小于等于1.2m。

进一步地,导电膜本体由氧化铟锡或纳米银制成。

根据本发明的另一方面,提供了一种电容式触摸屏,包括:基板;导电膜,导电膜贴设在基板上,导电膜为上述的导电膜。

根据本发明的又一方面,提供了一种导电膜的制作方法,包括如下步骤:步骤S1,在导电膜本体上划分多个分步刻蚀区域,依次在各分步刻蚀区域内通过激光进行刻蚀,以形成刻蚀图案,其中,刻蚀图案包括多条刻蚀线;步骤S2,在导电膜本体上激光刻蚀形成防短路图形,防短路图形跨越至少两个分步刻蚀区域,且分别位于相邻两个分步刻蚀区域内的两条相对应的刻蚀线通过一个防短路图形相连接。

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