[发明专利]一种双面ITO产品的制作方法和双面ITO产品

权利要求书

1.一种双面ITO产品的制作方法，其特征在于，包括：

步骤1：提供一ITO基板：

步骤2：采用ITO刻蚀液对所述ITO基板上的第一ITO层进行刻蚀，制作第一图案，形成第一ITO功能层，所述第一ITO层的厚度为800~2200Å；

步骤3：在所述第一ITO功能层上制作Mo合金层，在所述ITO基板的另一面上制作第二ITO层，所述第二ITO层的厚度小于500Å，所述Mo合金层中Mo的质量百分比为80%-95%，所述Mo合金层的厚度为400-3000 Å；

步骤4：采用ITO刻蚀液对所述第二ITO层进行刻蚀，制作第二图案，形成第二ITO功能层，所述ITO蚀刻液的温度为25~50℃，所述ITO刻蚀液可使所述Mo合金层具有短暂的惰性，使所述Mo合金层自身的致密膜结构避免被所述ITO刻蚀液所破坏；

步骤5：采用Mo刻蚀液去除所述Mo合金层，所述Mo刻蚀液为包括HNO₃、CH₃COOH和H₃PO₄的混合液，所述ITO刻蚀夜为包括HNO3、HCL和H2O的混合液，其中，HCL的质量浓度为36～38%，HNO3的质量浓度为65～68%；

步骤4中还包括：在所述第二ITO功能层上依次制作绝缘层和第三ITO层，采用ITO刻蚀液对所述第三ITO层进行刻蚀，制作第三图案，形成第三ITO功能层，其中所述第三ITO层的厚度小于500Å。

2.一种双面ITO产品，其特征在于，采用权利要求1所述的双面ITO产品的制作方法获得。