[发明专利]OLED阳极及其制造方法、OLED基板的制造方法

说明书

本发明公开一种OLED阳极及其制造方法、OLED基板的制造方法。所述OLED阳极的制造方法包括：形成第一导电图案；采用物理气象沉积PVD工艺在第一导电图案上形成反射层，所述PVD工艺的压强为0.8～1Pa、功率为2～4kw、惰性气体的流量为100～150sccm；在反射层上形成第二导电图案。基于此，本发明能够降低反射层中晶粒大小的均一性，提高反射层对可见光的反射率，改善OLED面板的发光效率。

技术领域

本发明涉及显示领域，具体涉及一种OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)阳极及其制造方法、OLED基板的制造方法。

背景技术

与传统的液晶显示面板相比，OLED面板具有反应速度快、对比度高、视角广等优势，被视为下一代显示技术。OLED面板的发光原理是：对阳极和阴极施加电压，在电压驱动下，电子的空穴分别从阴极和阳极注入到电子和空穴传输层，在迁移至发光层，并在发光层相遇，形成激子并使发光分子激发以发出可见光。

在顶发光式(Top emission)OLED面板的结构设计中，由于银(Ag)具有良好的导电性和反射性，其被广泛应用于制造阳极(anode)。但是，在目前采用银形成反射层的工艺中，如图1所示，沉积形成的晶粒11的均一性(uniformity)较差，一般为30％左右，晶粒11排布不整齐，对光的反射性不理想，例如在可见光波长为550nm时的反射率仅为97％左右，这无疑会影响OLED面板的发光效率。

发明内容

鉴于此，本发明提供一种OLED阳极及其制造方法、OLED基板的制造方法，能够降低反射层中晶粒的均一性，提高反射层对可见光的反射率，改善OLED面板的发光效率。

本发明一实施例的OLED阳极的制造方法，包括：

形成第一导电图案；

采用PVD(Physical Vapor Deposition,物理气象沉积)工艺在第一导电图案上形成反射层，PVD工艺的压强为0.8～1Pa(帕斯卡)、功率为2～4kw(千瓦)、惰性气体的流量为100～150sccm(每分钟标准毫升)；

在所述反射层上形成第二导电图案。

本发明一实施例的OLED基板的制造方法，包括：

提供衬底基材；

在所述衬底基材上形成TFT；

形成覆盖所述TFT的平坦层，所述平坦层开设有暴露所述TFT的漏极图案的跨接孔；

在所述平坦层上形成第一导电图案，所述第一导电图案覆盖所述跨接孔且与所述TFT的漏极图案接触；

采用物理气象沉积PVD工艺在第一导电图案上形成反射层，其中所述PVD工艺的压强为0.8～1Pa、功率为2～4kw、惰性气体的流量为100～150sccm；

在所述反射层上形成第二导电图案；

形成覆盖所述平坦层的像素定义层，所述像素定义层开设有开口区，所述开口区暴露所述第二导电图案；

在所述第二导电图案上形成有机发光图案。

本发明一实施例的OLED阳极，包括依次层叠设置的第一导电图案、反射层和第二导电图案，所述反射层中晶粒大小的均一性至少低于5％。

有益效果：本发明在采用PVD工艺形成反射层的过程中，设计PVD工艺的压强为0.8～1Pa、功率为2～4kw、惰性气体的流量为100～150sccm，反射层中的晶粒排布整齐，能够降低反射层中晶粒的均一性，从而可以提高反射层对可见光的反射率，改善OLED面板的发光效率。

附图说明

图1是现有技术的反射层中晶体的排布示意图；