[发明专利]一种显示基板及其制造方法、显示器件

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

基底；

半导体层，形成于所述基底上表面，包括沟道区与导电区；

栅绝缘层，形成于所述半导体层以及未被半导体层覆盖的基底上表面；

第一导电层，形成于所述栅绝缘层上表面，包括正投影与所述沟道区有重叠部分的若干栅极区；

第二导电层，所述第二导电层包括极板区；所述极板区形成于至少一个所述栅极区上表面且与该栅极区电性连接，其正投影与所述导电区有重叠部分。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述栅极区正投影边缘完全位于该栅极区上表面的极板区内部。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二导电层与所述第一导电层之间形成第一绝缘层，所述第一绝缘层内形成第一通孔，所述极板区与所述栅极区通过所述第一通孔电性连接。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述第一导电层、栅绝缘层以及半导体层形成若干薄膜晶体管，所述若干薄膜晶体管包括驱动晶体管，所述极板区形成于所述驱动晶体管的栅极区上表面。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述第一绝缘层以及栅绝缘层内形成第二通孔，所述极板区包括形成有效存储电容的电容区以及连接电容区的非电容区，所述非电容区通过所述第二通孔与所述导电区电性连接。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述第二导电层还包括与所述极板区相互分隔的非极板区，所述第一绝缘层以及栅绝缘层内形成第三通孔，所述非极板区通过所述第三通孔与所述导电区电性连接。

7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一导电层与所述第二导电层材料不同，所述极板区与所述栅极区直接接触。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述第一导电层材料为金属，所述第二导电层材料为氧化铟锡。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的显示基板的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一基底，并且在所述基底上表面形成半导体层；

在所述半导体层以及未被半导体层覆盖的基底上表面形成栅绝缘层，且在所述栅绝缘层上表面形成第一导电层，所述第一导电层包括若干栅极区，所述若干栅极区正投影与所述半导体层有若干重叠部分；

以所述第一导电层为掩膜对所述半导体层进行掺杂，形成导电区；

在所述至少一个所述栅极区上表面形成电性连接所述栅极区且正投影与所述导电区有重叠部分的极板区。

10.一种显示器件，包括若干单元发光器件，还包括权利要求1-8中任一项所述的显示基板，所述显示基板为各单元发光器件供电。