[发明专利]用于产生包括其中溶解有氨气的去离子水的导电液体的系统和方法有效
申请号: | 201780082978.9 | 申请日: | 2017-11-09 |
公开(公告)号: | CN110168713B | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | U.A.布拉默;J.塞维尔特;C.勒蒂克 | 申请(专利权)人: | MKS仪器有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张凌苗;闫小龙 |
地址: | 美国麻*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 产生 包括 其中 溶解 氨气 离子水 导电 液体 系统 方法 | ||
1.一种用于将氨气溶解在DI水中的系统,所述系统包括:
去离子水源;
气体混合设备,其包括:
第一入口,其与第一气体源流体连通,用于供应氨气;
第二入口,其与第二气体源流体连通,用于供应输送气体;以及
混合气体出口,用于输出包括氨气和输送气体的气体混合物;
接触器,其经由接触器的至少一个入口与去离子水源和混合气体出口流体连通,接触器产生其中溶解有氨气的去离子水;
传感器,其与接触器的至少一个入口流体连通,用于测量去离子水的流速;以及
控制器,其与传感器通信,控制器被配置成基于以下各项来设定从第一气体源供应的氨气的流速:
i)由传感器测量的去离子水的流速,以及
ii)预定的电导率设定点,以及
其中控制器被进一步配置成基于由传感器测量的去离子水的流速来调节从第二气体源输出的输送气体的压力。
2.如权利要求1所述的系统,其中混合气体出口与接触器的至少一个入口的上游的去离子水源流体连通。
3.如权利要求2所述的系统,进一步包括位于接触器的至少一个入口的上游的静态混合设备,静态混合设备用于将从气体混合设备输出的气体混合物与从去离子水源输出的去离子水混合。
4.如权利要求1所述的系统,其中接触器是填充柱或填充塔型接触器。
5.如权利要求1所述的系统,其中接触器的至少一个出口包括:
气体出口,用于从接触器排出废气;以及
液体出口,用于输出其中溶解有氨气的去离子水。
6.如权利要求1所述的系统,进一步包括与接触器的顶部和底部流体连通的液位传感器。
7.如权利要求1所述的系统,进一步包括与接触器流体连通的压力传感器。
8.如权利要求1所述的系统,进一步包括与以下各项之一流体连通的温度传感器:
接触器的至少一个入口,用于测量去离子水的温度;以及
接触器的至少一个出口,用于测量其中溶解有氨气的去离子水的温度。
9.如权利要求8所述的系统,其中控制器与温度传感器通信,控制器进一步被配置成基于由温度传感器测量的温度来设定从第一气体源供应的氨气的流速。
10.如权利要求1所述的系统,其中气体混合设备进一步包括与气体混合设备的第一入口流体连通的至少一个流量控制设备。
11.如权利要求10所述的系统,其中气体混合设备进一步包括与第二入口连通的气体注射器,气体注射器位于气体混合设备内,以将输送气体的流量引导到气体混合设备的至少一个流量控制设备的出口的开口。
12.如权利要求1所述的系统,进一步包括与接触器的至少一个液体出口流体连通的泵。
13.如权利要求1所述的系统,其中混合气体出口与去离子水源流体连通。
14.如权利要求1所述的系统,其中接触器的至少一个入口包括:
与去离子水源流体连通的液体入口;以及
与混合气体出口流体连通的气体入口。
15.如权利要求14所述的系统,其中气体入口包括在接触器内的出口孔,所述出口孔位于接触器中的液体的平均水平处。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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