[实用新型]一种反应仓密封的真空镀膜机

权利要求书

1.一种反应仓密封的真空镀膜机，包括仓体(1)和上盖(11)，上盖(11)盖于仓体(1)的仓口之上，其特征在于还包括：在仓体(1)的仓口，反应仓内壁(8)与反应仓外壁(12)之间设置有第一T形凹槽和第二T形凹槽，所述第一T形凹槽内设置有T型铜质密封圈(3)，所述第二T形凹槽内设置有橡胶密封圈(2)，紧贴反应仓外壁(12)内侧还设置有高温加热器(5)，所述高温加热器(5)对仓体(1)进行加热时，所述T形铜质密封圈(3)受热膨胀体积变大，与所述第一T形凹槽和上盖(11)严密的贴合。

2.如权利要求1所述的真空镀膜机，仓体(1)底部还设置有用于调节仓内真空度的真空截流阀(4)。

3.如权利要求1所述的真空镀膜机，反应仓外壁(12)还设置有至少一个观察窗(10)。

4.如权利要求1所述的真空镀膜机，仓体(1)还设置有用于输入保护气体的第一通道(7)和用于催化剂混合气体的第二通道(9)。

5.如权利要求4所述的真空镀膜机，第一通道(7)输入的所述保护气体为惰性气体。