[发明专利]有机发光显示面板及其制作方法有效
申请号: | 201711397739.0 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN108183123B | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 龚成波 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L23/544;H01L21/67;H01L51/56;H01L21/027;G06F3/041 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;阳志全 |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光 显示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一种有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一阵列基板(10),所述阵列基板(10)最顶层的金属层的边缘刻蚀形成分别朝四周延伸的多个刻度标尺(100);
在所述阵列基板(10)上制作有机发光层(20);
在所述有机发光层(20)上方设置一透明基板(31);
将上方设置有所述有机发光层(20)、所述透明基板(31)的两块所述阵列基板(10)并排且间隔地放置在载台(1)上;
将中间塞有垫片(2a)的喷头(2)设于两块所述阵列基板(10)正上方,并使所述垫片(2a)正对两块所述阵列基板(10)之间的间隙(G);
所述喷头(2)自所述间隙(G)的一端朝另一端移动并朝两块所述阵列基板(10)喷出光阻,所述喷头(2)的光阻涂布区域根据所述阵列基板(10)上相应的所述刻度标尺(100)确定;
曝光、显影,并刻蚀掉所述透明基板(31)上的残留光阻,完成触摸电极图案(32)的制作。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,所述刻度标尺(100)形成于所述阵列基板(10)的源极、漏极所在层上。
3.根据权利要求2所述的有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,每个所述刻度标尺(100)的至少一部分位于所述光阻涂布区域在所述阵列基板(10)上的投影外。
4.根据权利要求3所述的有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,所述刻度标尺(100)包括位于中间的基准刻度线(101)和分别位于所述基准刻度线(101)两侧的两条参照刻度(102),所述光阻涂布区域在所述阵列基板(10)上的投影的各侧边界分别位于相应的所述刻度标尺(100)上的两条所述参照刻度(102)之间。
5.根据权利要求4所述的有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,每个所述刻度标尺(100)包括多条相互平行的所述参照刻度(102),每个所述刻度标尺(100)上相邻的两条刻度之间的距离相等。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的