[发明专利]垂直型双色LED芯片在审

专利信息
申请号: 201711383453.7 申请日: 2017-12-20
公开(公告)号: CN108075028A 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 尹晓雪 申请(专利权)人: 西安智盛锐芯半导体科技有限公司
主分类号: H01L33/50 分类号: H01L33/50;H01L33/62
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 黄晶晶
地址: 710075 陕西省西安市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 垂直型双 金属层 蓝光 绿光 荧光粉 第二金属层 第一金属层 氧化隔离层 荧光粉颗粒 离散分布 依次层叠 集成度 色温 隔离 灵活 制作
【权利要求书】:

1.一种垂直型双色LED芯片,其特征在于,包括:依次层叠设置的第一金属层(1030)、第二金属层(1022)、第三金属层(1021)、第四金属层(1020),所述蓝光结构(10)和所述绿光结构(20)设置于所述第四金属层(1020)上,所述蓝光结构(10)和所述绿光结构(20)通过氧化隔离层(12)进行隔离。

2.根据权利要求1所述的垂直型双色LED芯片,其特征在于,还包括第一上电极(51)、第二上电极(52)、下电极(53),其中,所述第一上电极(51)设置于所述蓝光结构(10)上,所述第二上电极(52)设置于所述绿光结构(20)上,所述下电极(53)位于所述第一金属层(1030)底部。

3.根据权利要求1所述的垂直型双色LED芯片,其特征在于,所述蓝光结构(10)和所述绿光结构(20)的横截面均为矩形。

4.根据权利要求3所述的垂直型双色LED芯片,其特征在于,所述矩形的长和宽均为100微米。

5.根据权利要求1所述的垂直型双色LED芯片,其特征在于,所述蓝光结构(10)包括依次层叠设置的蓝光GaN缓冲层(101)、蓝光GaN稳定层(102)、蓝光n型GaN层(103)、蓝光InGaN/GaN多量子阱结构(104)、蓝光p型AlGaN阻挡层(105)、蓝光p型GaN层(106)。

6.根据权利要求1所述的垂直型双色LED芯片,其特征在于,所述绿光结构(20)包括依次层叠设置的绿光GaN缓冲层(201)、绿光GaN稳定层(202)、绿光n型GaN层(203)、绿光有源层(204)、绿光p型AlGaN阻挡层(205)、绿光p型GaN层(206)。

7.根据权利要求1所述的垂直型双色LED芯片,其特征在于,所述第三金属层(1021)的厚度为300nm-1500nm。

8.根据权利要求1所述的垂直型双色LED芯片,其特征在于,所述第二金属层(1022)的厚度为500nm-2500nm。

9.根据权利要求1所述的垂直型双色LED芯片,其特征在于,所述氧化隔离层(12)的材料为SiO2

10.根据权利要求1所述的垂直型双色LED芯片,其特征在于,所述第二金属层(1022)和所述第三金属层(1021)的材料相同。

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