[发明专利]一种硅异质结太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711314000.9 申请日: 2017-12-12
公开(公告)号: CN108054220A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 傅林坚;沈文杰;谷士斌;任明冲;侯洪涛;周学谦;宋元恒;蔡蔚 申请(专利权)人: 浙江晶盛机电股份有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0747;H01L31/20
代理公司: 杭州中成专利事务所有限公司 33212 代理人: 周世骏
地址: 312300 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 硅异质结 太阳能电池 及其 制备 方法
【说明书】:

发明涉及太阳能电池技术,旨在提供一种硅异质结太阳能电池及其制备方法。该电池包括位于中间层的硅片、覆盖在硅片两侧的非晶硅层、覆盖在非晶硅层表面的透明导电膜层,以及若干个同时贯通硅片、非晶硅层和透明导电膜层的通孔;在通孔中填充导电材料,导电材料与两侧透明导电膜层之间绝缘;在正面透明导电膜层上仅设置细栅电极,在背面透明导电膜层上同时设置细栅电极和主栅电极,通孔中导电材料同时连接正面细栅线和背面主栅电极,但不与背面细栅电极相连。本发明中制备工艺简单,能使正面遮光面积减少一半以上,发电效率相对于传统技术能提高2%以上。本发明提供了更多的空间用于优化电池正面的细栅电极线条形状,提供美化电池的设计空间。

技术领域

本发明涉及太阳能电池技术领域,尤其涉及一种硅异质结太阳能电池及其制备方法。

背景技术

非晶硅/单晶硅异质结太阳能电池(简称硅异质结太阳能电池)是一种应用广泛的电池。如图1所示,硅异质结太阳能电池通常由多种膜层构成,主要包括硅片10、非晶硅膜层11以及透明导电膜层12(TCO膜层),并以硅片10为对称中心呈上下对称结构。其中,非晶硅膜层11包括非晶n层、非晶p层以及本征i层,非晶硅膜层11主要由化学气相沉积(CVD)或者热丝法制备;透明导电膜层12通常采用掺锡氧化铟(ITO)或者掺铝氧化锌(AZO),透明导电膜层12主要由磁控溅射法或者蒸发法制备。在透明导电膜层12的表面通常采用以丝网印刷的方法制备电极13和14,浆料通常采用银浆。

通常情况下,电极分为细栅线和主栅线,正面细栅线和主栅线的遮光率分别在2.5-4%范围,正面栅线的总遮光率在5-8%范围内。由于正面栅线会遮挡太阳光,导致部分太阳光发电效率损失,因而降低正面栅线的遮光率是提高太阳能发电效率的重要手段。但是目前的方法主要集中在缩减栅线宽度和栅线间距上,由于可调范围小导致效果不理想。

发明内容

本发明要解决的技术问题是,克服现有技术中的不足,提供一种硅异质结太阳能电池及其制备方法。

为解决技术问题,本发明的解决方案是:

提供一种硅异质结太阳能电池,包括位于中间层的硅片、覆盖在硅片两侧的非晶硅层,以及覆盖在非晶硅层表面的透明导电膜层;该太阳能电池还包括若干个同时贯通硅片、非晶硅层和透明导电膜层的通孔,在通孔中填充有导电材料,导电材料与两侧的透明导电膜层之间绝缘;在正面的透明导电膜层上仅设置细栅电极,在背面的透明导电膜层上同时设置细栅电极和主栅电极,所述通孔中的导电材料同时连接正面的细栅线和背面的主栅电极,但不与背面的细栅电极相连。

本发明中,所述通孔的孔径在100um-5mm之间,单个电池片上的开孔数量在2-100个之间。

本发明中,所述通孔的横截面形状是圆形、方形或三角形。

本发明中,所述通孔与背面的细栅电极的间距大于5um。

本发明进一步提供了前述硅异质结太阳能电池的方法,包括以下步骤:

(1)按照预设的位置和数量,在硅片上打孔;

(2)在打孔后的硅片的正面和背面分别沉积非晶硅,形成非晶硅层;

(3)在正面和背面的非晶硅层上分别沉积透明导电膜,形成透明导电膜层;

(4)对硅片上的通孔进行防短路处理,然后向通孔中填入导电材料;

(5)在正面的透明导电膜层上布置细栅电极,在背面的透明导电膜层上布置细栅电极和主栅电极,使通孔中的导电材料同时连接正面的细栅线和背面的主栅电极,但不与背面的细栅电极相连。

本发明中,所述步骤(1)中的打孔是使用激光打孔。

本发明中,在步骤(1)完成之后,先对硅片进行碱腐、制绒与清洗处理,然后进行退火处理。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江晶盛机电股份有限公司,未经浙江晶盛机电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711314000.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top