[发明专利]一种适用于环形工件的沉积室和化学气相沉积系统

说明书

本申请公开一种适用于环形工件的沉积室，包括：保温室主体；设于保温室主体内的内保温层；保温室主体与内保温层之间形成沉积空间；用于向沉积空间内供入工艺气体的沉积喷气部；设于保温室主体与内保温层之间的加热结构；沉积空间内具有用于放置环形工件的沉积位。本申请提供的适用于环形工件的沉积室，与现有技术相比，其能够提高工艺气体的利用率，降低沉积设备能耗，本申请还提供一种化学气相沉积系统，同样具有上述有益效果。

技术领域

本申请涉及化学气相沉积技术领域，更具体地说，尤其涉及一种适用于环形工件的沉积室，本申请还涉及一种化学气相沉积系统。

背景技术

化学气相沉积是制备功能材料、结构材料的重要方法，其原理是将参与化学反应的物质加热到一定工艺温度，在真空泵抽气系统产生的引力作用下，将混合气源引入沉积室进行反应，使生成的晶体物质沉积在沉积室内的基板上。

筒状的碳-碳工件采用传统化学气相沉积设备进行沉积的过程中，由于其内部为中空结构，碳-碳环形工件内部空间比较大，导致沉积设备的能耗较大，不但浪费了大量的工艺气体，而且沉积效果也难以达到预期效果。

因此，提供一种适用于环形工件的沉积室，其能够提高工艺气体的利用率，降低设备能耗，已经成为本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

为解决上述技术问题，本申请提供一种适用于环形工件的沉积室，其能够提高工艺气体的利用率，降低设备能耗，本申请还提供一种化学气相沉积系统，同样具有上述有益效果。

本申请提供的技术方案如下：

一种适用于环形工件的沉积室，包括：保温室主体；设于保温室主体内的内保温层；保温室主体与内保温层之间形成沉积空间；

用于向沉积空间供入工艺气体的沉积喷气部；

设于保温室主体与内保温层之间的加热结构；

沉积空间内具有用于放置环形工件的沉积位。

进一步地，在本发明一种优选的方式中，沉积位设置于内保温层与加热结构之间。

进一步地，在本发明一种优选的方式中，沉积位设置于加热结构与保温室主体之间。

进一步地，在本发明一种优选的方式中，内保温层为筒体结构，内保温层底部与保温室主体紧密贴合，内保温层顶部与保温室主体之间形成有供工艺气体流通的空间。

进一步地，在本发明一种优选的方式中，沉积喷气部设于保温室主体底部、且位于与沉积空间相对应的位置。

进一步地，在本发明一种优选的方式中，沉积喷气部包括：沉积喷嘴，与沉积喷嘴连通的喷气管路，与喷气管路连通的喷气控制源。

进一步地，在本发明一种优选的方式中，沉积喷嘴至少为两个，且设置在内保温层上。

进一步地，在本发明一种优选的方式中，沉积喷嘴，与沉积喷嘴连接的喷气管路，与喷气管路连通的喷气控制源。

进一步地，在本发明一种优选的方式中，沉积喷嘴至少为两个，且设置在保温室主体上。

一种化学气相沉积系统，包括：动力气路系统，工艺气路系统，电控系统，尾气冷凝及焦油捕集器，水冷系统，真空系统，炉体内设有如上所述的适用于环形工件的沉积室。