[发明专利]发光二极管及其制备方法、阵列基板、电子装置有效

专利信息
申请号: 201711224640.0 申请日: 2017-11-29
公开(公告)号: CN107994124B 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 陈右儒 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光二极管 及其 制备 方法 阵列 电子 装置
【权利要求书】:

1.一种发光二极管,包括:

衬底基板,

层叠设置在所述衬底基板上的第一电极、量子柱发光层以及第二电极,

其中,所述量子柱发光层包括多个量子柱,多个所述量子柱呈定向排列;

所述发光二极管还包括第三电极和第四电极,所述第三电极和所述第四电极配置为在加电状态下产生平行于所述衬底基板所在平面的电场;

所述第三电极和所述第四电极设置在同一层且均为狭缝状电极;

多个所述量子柱均匀分布于所述第三电极和所述第四电极的间隙中;

各个所述量子柱的长径比大于2且小于50。

2.根据权利要求1所述的发光二极管,还包括位于所述第一电极与所述量子柱发光层之间或所述第二电极与所述量子柱发光层之间的功能层,其中,所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层、电子注入层或电子传输层。

3.根据权利要求2所述的发光二极管,其中,所述第一电极设置在所述衬底基板与所述空穴注入层之间,所述第二电极设置在所述电子传输层的远离所述衬底基板的一侧。

4.一种发光二极管阵列基板,包括权利要求1~3中任一项所述的发光二极管。

5.根据权利要求4所述的发光二极管阵列基板,还包括像素界定层,其中,所述像素界定层包括凹槽,所述量子柱发光层形成在所述凹槽中。

6.一种电子装置,包括权利要求4或5所述的发光二极管阵列基板。

7.一种发光二极管的制备方法,包括:

提供衬底基板;

在所述衬底基板上形成层叠的第一电极、量子柱发光层以及第二电极;

在所述衬底基板上形成第三电极和第四电极;

其中,所述量子柱发光层包括多个量子柱,多个所述量子柱呈定向排列;

所述第三电极和所述第四电极在加电状态下产生平行于所述衬底基板所在平面的电场;

所述第三电极和所述第四电极设置在同一层且均为狭缝状电极;

多个所述量子柱均匀分布于所述第三电极和所述第四电极的间隙中;

各个所述量子柱的长径比大于2且小于50。

8.根据权利要求7所述的制备方法,还包括在所述衬底基板上形成位于所述第一电极与所述量子柱发光层之间或所述第二电极与所述量子柱发光层之间的功能层,其中,所述功能层包括空穴注入层、空穴传输层、电子注入层或电子传输层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711224640.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top