[发明专利]柔性基底及其制作方法、柔性显示基板及其制作方法

权利要求书

1.一种柔性显示基板，其特征在于，包括柔性基底，所述柔性显示基板还包括位于所述柔性基底上的显示器件；

所述柔性基底包括：

第一有机薄膜；

位于所述第一有机薄膜上的无机薄膜；

设置于所述无机薄膜背向所述第一有机薄膜的表面的阻挡结构，所述阻挡结构位于所述无机薄膜的边缘，所述阻挡结构背向所述无机薄膜的表面的高度，低于所述显示器件中发光元件背向所述无机薄膜的表面的高度；

位于所述阻挡结构限定的区域内的第二有机薄膜，所述第二有机薄膜在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部；

所述阻挡结构采用有机感光树脂。

2.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述阻挡结构在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部。

3.根据权利要求1或2所述的柔性显示基板，其特征在于，所述阻挡结构的厚度大于或等于所述第二有机薄膜的边缘的厚度。

4.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述显示器件包括：位于所述第二有机薄膜上的薄膜晶体管阵列层、发光元件和薄膜封装层。

5.一种柔性显示基板的制备方法，其特征在于，包括柔性基底的制作方法，所述柔性基底的制作方法包括：

提供一载板；

在所述载板上形成第一有机薄膜；

在所述第一有机薄膜上形成无机薄膜；

在所述无机薄膜背向所述第一有机薄膜的表面，在所述无机薄膜的边缘形成阻挡结构；

在所述阻挡结构限定的区域内形成第二有机薄膜，所述第二有机薄膜在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部；

所述在所述无机薄膜的边缘形成阻挡结构包括：

利用有机材料，在所述无机薄膜上形成阻挡薄膜；

对所述阻挡薄膜进行构图，形成位于所述无机薄膜的边缘的所述阻挡结构，所述阻挡结构在所述第一有机薄膜上的正投影位于所述第一有机薄膜的内部；

所述柔性显示基板的制备方法还包括：

在所述柔性基底上形成显示器件，所述阻挡结构背向所述无机薄膜的表面的高度，低于所述显示器件中发光元件背向所述无机薄膜的表面的高度；

采用激光剥离技术，将所述载板与所述第一有机薄膜分离；

在所述第一有机薄膜远离所述无机薄膜的表面贴附保护膜。

6.根据权利要求5所述的柔性显示基板的制备方法，其特征在于，所述在所述阻挡结构限定的区域内形成第二有机薄膜包括：在所述阻挡结构限定的区域内，形成边缘的厚度小于或等于所述阻挡结构的厚度的第二有机薄膜。