[发明专利]体声波谐振器及其制造方法有效
| 申请号： | 201710940292.0 | 申请日： | 2017-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN107947751B | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 林昶贤;韩源;李文喆;李泰京 | 申请（专利权）人： | 三星电机株式会社 |
| 主分类号： | H03H3/04 | 分类号： | H03H3/04;H03H9/02 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 钱海洋;金光军 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 声波 谐振器 及其 制造 方法 | ||
1.一种体声波谐振器，包括：
膜层，设置在基板上并且与所述基板一起形成腔；
下电极，设置在所述膜层上并且位于所述腔上方；
压电层，设置在所述下电极上；
上电极，设置在所述压电层上，并且包括框架部，所述框架部设置在有效区域的边缘处并且具有比所述上电极的设置在所述有效区域的中央部分中的部分的厚度大的厚度；及
频率调节层，设置在所述压电层和所述上电极上，
其中，所述频率调节层从所述框架部的倾斜表面被去除，或所述频率调节层的在所述倾斜表面上的部分的厚度小于所述频率调节层的其他部分的厚度，
其中，所述频率调节层设置在所述压电层的从所述上电极突出的部分上，
其中，台阶部设置在所述频率调节层的设置于所述框架部的水平的顶表面的部分上。
2.如权利要求1所述的体声波谐振器，其中，所述压电层的从所述上电极突出的所述部分包括平坦表面。
3.如权利要求2所述的体声波谐振器，其中，所述频率调节层设置在所述平坦表面上。
4.如权利要求1所述的体声波谐振器，其中，在所述频率调节层堆叠在所述体声波谐振器中之后，通过修整操作，由于修整率不同，使所述频率调节层从所述倾斜表面被去除，或者使得所述频率调节层的在所述倾斜表面上的所述部分的厚度形成为小于所述频率调节层的所述其他部分的厚度。
5.一种体声波谐振器，包括：
基板；
膜层，设置在所述基板上，并且与所述基板一起形成腔；
下电极，设置在所述膜层上，并且位于所述腔上方；
压电层，设置在所述下电极上；
上电极，设置在所述压电层上，并且包括框架部，所述框架部设置在有效区域的边缘处并且具有比所述上电极的设置在所述有效区域的中央部分中的部分的厚度大的厚度；及
频率调节层，设置在所述压电层和所述上电极上，
其中，所述频率调节层从所述框架部的倾斜表面被去除，或所述频率调节层的在所述倾斜表面上的部分的厚度小于所述频率调节层的其他部分的厚度，
其中，台阶部设置在所述频率调节层的设置于所述框架部的水平的顶表面上的部分上。
6.如权利要求5所述的体声波谐振器，所述体声波谐振器还包括设置在所述上电极的部分和所述下电极的部分上的金属焊盘，其中，所述上电极的所述部分和所述下电极的所述部分上没有形成所述频率调节层。
7.如权利要求6所述的体声波谐振器，其中，所述频率调节层设置在所述压电层的从所述上电极突出的部分上。
8.如权利要求7所述的体声波谐振器，其中，所述压电层包括位于所述压电层的从所述上电极突出的所述部分中的平坦表面。
9.如权利要求8所述的体声波谐振器，其中，所述频率调节层设置在所述压电层的所述平坦表面上。
10.如权利要求5所述的体声波谐振器，其中，在所述频率调节层堆叠在所述体声波谐振器中之后，通过修整操作，由于修整率不同，使所述频率调节层从所述倾斜表面被去除，或者使得所述频率调节层的在所述倾斜表面上的所述部分的厚度形成为小于所述频率调节层的所述其他部分的厚度。
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