[发明专利]彩膜基板及其制作方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：衬底基板(10)、设于所述衬底基板(10)上的公共电极(20)；

所述衬底基板(10)包括：显示区(11)、以及包围所述显示区(11)的非显示区(12)；

所述公共电极(20)包括：主电极(21)、以及至少一个与所述主电极(21)电性连接的连接电极(22)，所述主电极(21)位于所述显示区(11)内且连续覆盖整个显示区(11)，所述连接电极(22)位于所述非显示区(12)内且仅覆盖所述非显示区(12)的一部分；

所述主电极(21)的形状为矩形，所述连接电极(22)的数量为六个，该六个连接电极(22)分别电性连接于所述主电极(21)四角和主电极(21)两长边的中点处；

所述连接电极(22)用于与预设于阵列基板上的公共电极触点电性连接；

所述连接电极(22)仅设置在与所述公共电极触点相对应的位置，而在对应阵列基板上的控制信号走线的位置不再设置电极，同时所述彩膜基板的边缘也不再设置电极。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，在所述衬底基板(10)与所述公共电极(20)之间还设有多个色阻块(30)以及分隔所述多个色阻块(30)的黑色矩阵(40)；

所述多个色阻块(30)阵列排布于所述显示区(11)内，所述黑色矩阵(40)包括：多个位于所述显示区(11)内各个色阻块(30)之间的黑色矩阵条(41)、以及位于所述非显示区(12)内包围所述显示区(11)的黑色矩阵框(42)。

3.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1、提供一衬底基板(10)，所述衬底基板(10)包括：显示区(11)、以及包围所述显示区(11)的非显示区(12)；

步骤S2、在所述衬底基板(10)上涂布公共电极材料，形成公共电极薄膜(20’)，所述公共电极薄膜(20’)覆盖整个衬底基板(10)；

步骤S3、根据预设的公共电极图案，去除位于所述非显示区(12)内的部分公共电极薄膜(20’)，得到公共电极(20)；

所述公共电极(20)包括：位于显示区(11)内的主电极(21)、以及至少一个位于非显示区(12)内的与所述主电极(21)电性连接的连接电极(22)；

所述主电极(21)的形状为矩形，所述连接电极(22)的数量为六个，该六个连接电极(22)分别电性连接于所述主电极(21)四角和主电极(21)两长边的中点处；

所述连接电极(22)用于与预设于阵列基板上的公共电极触点电性连接；

所述连接电极(22)仅设置在与所述公共电极触点相对应的位置，而在对应阵列基板上的控制信号走线的位置不再设置电极，同时所述彩膜基板的边缘也不再设置电极。

4.如权利要求3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中通过镭射制程去除位于所述非显示区(12)内的部分公共电极薄膜(20’)。

5.如权利要求3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中通过光罩制程去除位于所述非显示区(12)内的部分公共电极薄膜(20’)。

6.如权利要求3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S1与步骤S2之间还包括：在所述衬底基板(10)上制作多个色阻块(30)以及分隔所述多个色阻块(30)的黑色矩阵(40)的步骤，所述公共电极(20)位于所述多个色阻块(30)以及黑色矩阵(40)上；

所述多个色阻块(30)阵列排布于所述显示区(11)内，所述黑色矩阵(40)包括：多个位于所述显示区(11)内各个色阻块(30)之间的黑色矩阵条(41)、以及位于所述非显示区(12)内包围所述显示区(11)的黑色矩阵框(42)。