[发明专利]OLED器件及其制作方法

权利要求书

1.一种OLED器件，包括基板和位于所述基板上的多个像素单元，每一所述像素单元包括第一电极层、有机层和第二电极层，其特征在于，还包括微腔效应调节结构，所述微腔效应调节结构包括设置在所述第一电极层与所述有机层之间的至少两层透明氧化物层；至少两层所述透明氧化物层中的最下层的所述透明氧化物层所采用材料的功函数低于其余所述透明氧化物层所采用材料的功函数。

2.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，通过设定所述透明氧化物层的厚度，来调节微腔效应。

3.根据权利要求2所述的OLED器件，其特征在于，所述透明氧化物层的厚度的取值范围在5～100nm。

4.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，通过设定各层所述透明氧化物层所采用的材料，来调节微腔效应。

5.根据权利要求4所述的OLED器件，其特征在于，所述透明氧化物层所采用的材料的折射率的取值范围在1.5～2.2。

6.根据权利要求1所述的OLED器件，其特征在于，至少两层所述透明氧化物层中的最下层的所述透明氧化物层所采用的材料为ITO；其余所述透明氧化物层所采用的材料包括ZnO、IZO或者ITO。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的OLED器件，其特征在于，所述第一电极层设置在所述基板之上；所述至少两层透明氧化物层设置在所述第一电极层之上；所述有机层设置在所述至少两层透明氧化物层之上；所述第二电极层设置在所述有机层之上。

8.根据权利要求1-6任意一项所述的OLED器件，其特征在于，所述第二电极层设置在所述基板之上；所述有机层设置在所述第二电极层之上；所述至少两层透明氧化物层设置在所述有机层之上；所述第一电极层设置在所述至少两层透明氧化物层之上。

9.根据权利要求8所述的OLED器件，其特征在于，在所述至少两层透明氧化物层与所述有机层之间还设置有保护层。

10.一种OLED器件的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板和位于所述基板上的多个像素单元；

每一所述像素单元的制作方法包括：

在所述基板上形成第一电极层；

在所述第一电极层上形成微腔效应调节结构，所述微腔效应调节结构包括至少两层透明氧化物层；

在所述至少两层透明氧化物层上形成有机层；

在所述有机层上形成有第二电极层；

或者，包括：

在所述基板上形成第二电极层；

在所述第二电极层上形成有机层；

在所述有机层上形成微腔效应调节结构，所述微腔效应调节结构包括至少两层透明氧化物层；

在所述至少两层透明氧化物层上形成第一电极层；

至少两层所述透明氧化物层中的最下层的所述透明氧化物层所采用材料的功函数低于其余所述透明氧化物层所采用材料的功函数。

11.根据权利要求10所述的OLED器件的制作方法，其特征在于，在所述第二电极层上形成有机层之后，且在所述有机层上形成微腔效应调节结构之前，还包括：

在所述有机层上形成保护层。

12.根据权利要求10所述的OLED器件的制作方法，其特征在于，采用喷墨打印的方式制作所述透明氧化物层。

13.根据权利要求10所述的OLED器件的制作方法，其特征在于，采用光刻工艺的方式制作最下层的所述透明氧化物层，而采用喷墨打印的方式制作其余所述透明氧化物层。