[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

形成像素界定层过渡图形，所述像素界定层过渡图形的侧表面形成底切；

在形成有所述像素界定层过渡图形的衬底基板上形成公共层，所述公共层在所述像素界定层过渡图形的侧表面断裂；

去除所述底切，得到像素界定层的图形；

形成阴极。

2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成像素界定层过渡图形包括：

形成第一感光材料层；

对所述第一感光材料层进行曝光，使得所述第一感光材料层表面的一部分感光材料被充分曝光，形成充分曝光膜层；

在曝光后的第一感光材料层上形成第二感光材料层；

以制作像素界定层的图形的掩模板为遮挡对所述第一感光材料层和所述第二感光材料层进行曝光，使得所述第一感光材料层和所述第二感光材料层未被所述掩模板的遮光图形遮挡的部分充分曝光；

对曝光后的第一感光材料层和第二感光材料层进行显影，形成所述像素界定层过渡图形，所述像素界定层过渡图形包括第一堤部、位于第一堤部上的第二堤部和位于第二堤部上的第三堤部，所述第二堤部的顶面在衬底基板上的正投影完全落入所述第三堤部的底面在衬底基板上的正投影内，且所述第二堤部的顶面在衬底基板上的正投影的边缘与所述第三堤部的底面在衬底基板上的正投影的边缘间隔一定距离。

3.根据权利要求2所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述去除所述底切，得到像素界定层的图形包括：

对所述像素界定层过渡图形进行加热，使得部分所述像素界定层过渡图形融化将所述第一堤部、所述第二堤部和所述第三堤部的侧表面连成一平缓的坡面，得到像素界定层的图形。

4.根据权利要求2所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述第一感光材料层的厚度为D，所述充分曝光膜层的厚度d为1/10 D～1/5 D。

5.根据权利要求4所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述第二感光材料层的厚度d1为1/5 D～1/3 D，且d1大于d。

6.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成像素界定层过渡图形包括：

形成第一感光材料层；

对所述第一感光材料层进行曝光，使得全部所述第一感光材料层被充分曝光；

在曝光后的第一感光材料层上形成第二感光材料层；

以制作像素界定层的图形的掩模板为遮挡对所述第一感光材料层和所述第二感光材料层进行曝光，使得所述第一感光材料层和所述第二感光材料层未被所述掩模板的遮光图形遮挡的部分充分曝光；

对曝光后的第一感光材料层和第二感光材料层进行显影，形成所述像素界定层过渡图形，所述像素界定层过渡图形包括第二堤部和位于第二堤部上的第三堤部，所述第二堤部的顶面在衬底基板上的正投影完全落入所述第三堤部的底面在衬底基板上的正投影内，且所述第二堤部的顶面在衬底基板上的正投影的边缘与所述第三堤部的底面在衬底基板上的正投影的边缘间隔一定距离。

7.根据权利要求6所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述去除所述底切，得到像素界定层的图形包括：

对所述像素界定层过渡图形进行加热，使得部分所述像素界定层过渡图形融化将所述第二堤部和所述第三堤部的侧表面连成一平缓的坡面，得到像素界定层的图形。

8.根据权利要求3或7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述对所述像素界定层过渡图形进行加热包括：

在80℃至100℃的温度下对所述像素界定层过渡图形进行12至48小时的加热。

9.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，形成所述公共层包括：

在形成有所述像素界定层过渡图形的衬底基板上制备整层的公共层，所述公共层在所述像素界定层过渡图形的侧表面上发生断裂，一部分落入所述像素界定层过渡图形限定出的像素区域内，另一部分位于所述像素界定层过渡图形的顶表面。