[发明专利]掩模板及其制作方法

说明书

一种掩模板及其制作方法。该掩模板包括掩模基板，掩模基板上包括掩模区，掩模区包括有效区以及围绕有效区的虚设区，在有效区和虚设区内均设置有贯穿掩模基板的多个通孔，其中，设置在虚设区的多个通孔填充遮挡材料。该掩模板对设置在虚设区的通孔填充遮挡材料，一方面可以阻挡蒸镀材料蒸镀到待蒸镀的衬底基板上，另一方面可以促进掩模区达到张力平衡以及改善有效区边缘刻蚀不良的现象，从而避免了采用该掩模板蒸镀形成的有效显示区边缘显示异常的现象，提升了产品的良率。

技术领域

本发明至少一个实施例涉及一种掩模板及其制作方法

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)是指有机半导体材料和发光材料在电场驱动下，通过载流子注入和复合导致发光的现象。有机发光二极管的发光原理是采用透明电极和金属电极分别作为器件的阳极和阴极，在一定电压驱动下，电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子和空穴传输层，电子和空穴分别经过电子和空穴传输层迁移到发光层，并在发光层中相遇，形成激子并使发光分子激发，后者经过辐射弛豫而发出可见光。辐射光可从透明电极一侧观察到，金属电极同时也起了反射层的作用。

与传统的显示技术相比较，主动矩阵发光二极管面板(Active Matrix/OrganicLight Emitting Diode，AMOLED)有以下优点：AMOLED不需要液晶，仅通过非常薄的有机发光层，就能实现自发光，所以AMOLED可以做到更轻薄；AMOLED可以突破传统的红绿蓝(RGB)像素的排列束缚，可以实现pentile排列的像素结构，达到高分辨率的效果；AMOLED是采用自主发光的原理实现显示的，当画面显示黑色时是由于像素不发光，因此AMOLED不仅能达到高对比度，还能降低功耗，达到省电的效果。但是AMOLED作为一种高端的显示技术，对工艺的要求是非常严苛的，从驱动电路的制作，以及后续的有机发光层的蒸镀都有难点。

发明内容

本发明的至少一实施例提供一种掩模板及其制作方法。该掩模板对设置在虚设区的通孔填充遮挡材料，一方面可以阻挡蒸镀材料蒸镀到待蒸镀的衬底基板上，另一方面可以促进掩模区达到张力平衡以及改善有效区边缘刻蚀不良的现象，从而避免了采用该掩模板蒸镀形成的有效显示区边缘显示异常的现象，提升了产品的良率。

本发明的至少一实施例提供一种掩模板，该掩模板包括掩模基板，掩模基板上包括掩模区，掩模区包括有效区以及围绕有效区的虚设区，在有效区和虚设区内均设置有贯穿掩模基板的多个通孔，其中，设置在虚设区的多个通孔填充遮挡材料。

本发明的至少一实施例提供一种掩模板的制作方法，该掩模板的制作方法包括：在掩模基板的掩模区内形成贯穿掩模基板的多个通孔，掩模区包括有效区以及围绕有效区的虚设区，在有效区和虚设区内均设置有通孔；对虚设区的多个通孔填充遮挡材料。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。

图1a为一种用于制作圆形显示面板的高精细金属掩模板的示意图；

图1b为利用有限元分析软件(ANSYS)仿真如图1a所示的高精细金属掩模板的张网过程的效果示意性示意图；

图2a-图2c为高精细金属掩模板的掩模基板刻蚀后的截面形貌示意图；

图3a为本发明一实施例提供的掩模板示意图；

图3b为本发明一实施例提供的利用有限元分析软件(ANSYS)仿真如图3a所示的高精细金属掩模板的张网过程的效果示意性示意图；

图4为本发明一实施例提供的另一示例提供的一种掩模板示意图；

图5为本发明一实施例提供的另一示例提供的一种掩模板示意图；