[发明专利]阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置

说明书

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置。

背景技术

在液晶基板制造过程中，为了使液晶分子形成一定的角度，通常需要对基板上的取向膜进行摩擦取向。在这一过程中如果会出现摩擦不均匀，会造成面板品质不良。摩擦不均匀(Rubbing Mura)现象的产生机理是由于被摩擦(Rubbing)的表面不平，导致在Rubbing过程中，造成Rubbing布上的绒毛分布不均匀，而产生Rubbing Mura。

高级超维场转换技术(Advanced Super Dimension Switch，ADS)产品在进行Rubbing时，参见图1，滚轮101Rubbing方向与栅线(Gate线)平行，在Rubbing过程中由于Gate线区域103比玻璃基板104表面偏高，导致Rubbing布102的绒毛分布不均，即图中区域1021内的Rubbing布的绒毛分布不均匀，从而在Rubbing时，容易在Gate线区域103上产生Rubbing Mura 106。

发明内容

本申请实施例提供了一种阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置，用以防止产生Rubbing Mura或降低Rubbing Mura的程度。

本申请实施例提供的一种阵列基板，包括玻璃基板和设置在所述玻璃基板之上的层结构，所述层结构中具有凸凹不平的膜层，所述阵列基板还包括：用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层。

本申请实施例通过在阵列基板中设置用于调整凸凹不平的膜层的平整度的膜层，从而可以使得阵列基板更加平整，防止产生Rubbing Mura或降低Rubbing Mura的程度。

可选地，所述凸凹不平的膜层为栅极扫描线。

本申请实施例，通过对栅极扫描线设置用于调整栅极扫描线所在的凸凹不平的膜层的平整度的膜层，从而降低或避免薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)的段差，因此可以降低Rubbing Mura的程度或防止产生Rubbing Mura。

可选地，所述用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层，为透明膜层。

由于采用透明膜层，从而不影响光的透过率。

可选地，所述透明膜层中设置有凹槽，所述栅极扫描线层设置在所述凹槽内。

若栅极扫描线层全部设置在凹槽内，则可以得到平整的层结构，从而防止产生Rubbing Mura；若栅极扫描线层部分设置在凹槽内，则可以得到较为平整的层结构，从而降低Rubbing Mura的程度。

可选地，所述栅极扫描线层全部设置在所述凹槽内，并且将所述凹槽填平。

可选地，所述透明膜层为防蓝光膜层。

通过利用防蓝光膜层调整TFT段差，从而既可以防蓝光，又可以降低Rubbing Mura的程度或防止出现Rubbing Mura。

本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例所述的阵列基板。

本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例所述的显示面板。

本申请实施例提供的一种本申请实施例所述的阵列基板的制作工艺，包括设置玻璃基板，以及在所述玻璃基板之上设置层结构，所述层结构中具有凸凹不平的膜层，在所述玻璃基板之上设置所述层结构的过程中，包括设置用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层。

可选地，所述用于调整所述凸凹不平的膜层的平整度的膜层，为防蓝光膜层；所述凸凹不平的膜层为栅极扫描线；

在所述玻璃基板之上设置所述层结构，具体包括：

在所述玻璃基板上设置防蓝光膜层；

在所述防蓝光膜层上设置凹槽；

在所述凹槽内设置栅极扫描线。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中的Rubbing Mura现象的产生过程示意图；

图2～图14为本申请实施例提供的制作阵列基板的过程中的各结构示意图；

图15为现有技术中的阵列基板的结构示意图。

具体实施方式

本申请实施例提供了一种阵列基板及其制作工艺、显示面板、显示装置，用以防止产生Rubbing Mura或降低Rubbing Mura的程度。