[发明专利]具有近似锯齿波脉冲的RF功率传输

权利要求书

1.一种使用多电平脉冲RF功率来操作等离子体增强基板处理系统的方法，包含以下步骤：

提供第一多电平RF功率波形到处理腔室，所述第一多电平RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率电平、第二脉冲持续时间期间的第二功率电平、和第三脉冲持续时间期间的第三功率电平；

在第一延迟周期之后，提供第二多电平RF功率波形到所述处理腔室，所述第二多电平RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率电平、第二脉冲持续时间期间的第二功率电平、和第三脉冲持续时间期间的第三功率电平；以及

在第二延迟周期之后，提供第三多电平RF功率波形到所述处理腔室，所述第三多电平RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率电平、第二脉冲持续时间期间的第二功率电平、和第三脉冲持续时间期间的第三功率电平。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述第一多电平RF功率波形与所述第二多电平RF功率波形同步。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述第一多电平RF功率波形的所述第一功率电平是高功率电平，所述第一多电平RF功率波形的所述第二功率电平是低于所述第一多电平RF功率波形的所述第一功率电平的低功率电平，而所述第一多电平RF功率波形的所述第三功率电平是零功率电平。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述第二多电平RF功率波形的所述第一功率电平是高功率电平，所述第二多电平RF功率波形的所述第二功率电平是低于所述第二多电平RF功率波形的所述第一功率电平的低功率电平，而所述第二多电平RF功率波形的所述第三功率电平是零功率电平。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述第一多电平RF功率波形与所述第三多电平RF功率波形同步。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述第一多电平RF功率波形、所述第二多电平RF功率波形、和所述第三多电平RF功率波形同步。

7.如权利要求1所述的方法，其中所述第一、第二、和第三多电平RF功率波形中的每一个的所述第一、第二、和第三功率电平中的一个是零功率电平。

8.如权利要求1所述的方法，其中施加所述第一多电平RF功率波形的所述第一、第二、和第三功率电平中的每一个的持续时间彼此不同。

9.如权利要求1所述的方法，其中施加所述第二多电平RF功率波形的所述第一、第二、和第三功率电平中的每一个的持续时间彼此不同。

10.如权利要求1所述的方法，其中施加所述第三多电平RF功率波形的所述第一、第二、和第三功率电平中的每一个的持续时间彼此不同。

11.如权利要求1所述的方法，其中所述第一多电平RF功率波形是源RF信号，而所述第二与第三多电平RF功率波形是RF偏压信号。

12.如权利要求1所述的方法，其中所述第一延迟周期在10μs至1ms之间。

13.如权利要求1所述的方法，其中所述第二延迟周期在10μs至1ms之间。

14.一种等离子体增强基板处理系统，包含：

第一RF产生器，被配置成提供第一多电平RF功率波形到处理腔室，所述第一多电平RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率电平、第二脉冲持续时间期间的第二功率电平、和第三脉冲持续时间期间的第三功率电平；

第二RF产生器，被配置成在第一延迟周期之后，提供第二多电平RF功率波形到所述处理腔室，所述第二多电平RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率电平、第二脉冲持续时间期间的第二功率电平、和第三脉冲持续时间期间的第三功率电平；以及

第三RF产生器，被配置为在第二延迟周期之后，提供第三多电平RF功率波形到所述处理腔室，所述第三多电平RF功率波形至少具有第一脉冲持续时间期间的第一功率电平、第二脉冲持续时间期间的第二功率电平、和第三脉冲持续时间期间的第三功率电平。