[发明专利]低K值和中K值LTCC介电组合物及装置有效
申请号: | 201680009889.7 | 申请日: | 2016-02-17 |
公开(公告)号: | CN107250081B | 公开(公告)日: | 2020-09-11 |
发明(设计)人: | 小沃尔特·J·赛姆斯 | 申请(专利权)人: | 费罗公司 |
主分类号: | C04B35/495 | 分类号: | C04B35/495;B32B18/00;H01L21/02 |
代理公司: | 北京市万慧达律师事务所 11111 | 代理人: | 王蕊;李轶 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | ltcc 组合 装置 | ||
由包含前体材料混合物的介电组合物制备的LTCC装置,所述组合物经烧制形成包含钡‑钨‑硅基体的介电材料。
技术领域
本发明涉及介电组合物,且更特别地涉及介电常数K=6-12或者高达约50同时具有非常高Q因子的钡-硅-钨酸盐基介电组合物,其可用于具有贵金属金属化的低温共烧陶瓷(LTCC)应用。
背景技术
现有技术中用于无线应用的LTCC系统的材料使用介电常数K=4-8并且在1MHz的测量频率下的Q因子为约500-1,000的电介质。这通常通过使用混合有高浓度的BaO-CaO-B2O3低软化温度玻璃的陶瓷粉末来实现,所述高浓度的BaO-CaO-B2O3低软化温度玻璃使得陶瓷能够低温致密(875℃或更低)。这种大量的玻璃具有降低所述陶瓷Q值的不利影响。
发明内容
本发明涉及介电组合物,且更特别地涉及钡-硅-钨酸盐基的介电组合物,其具有介电常数K=6-12或者高达约50,例如约1至约50,或约6至约45同时具有非常高的Q因子,并且可用于具有贵金属金属化的低温共烧陶瓷(LTCC)应用。Q因子=1/Df,其中Df为介电损耗角正切。用于高频应用的具有大于1,000的非常高的Q值的介电材料的需求不断增长。
本发明还涉及一种介电材料组合物,其在烧制成致密陶瓷体时符合COG规范的行业标准,同时保持高Q值,例如Q值(在1MHz的测量频率下)大于1000、2000、5000、10000、15000、20000、30000、40000、50000或上述值之间的任何值,或甚至更高。
广泛地说,本发明的陶瓷材料包含一个基体,所述基体通过将合适量的BaCO3、WO3和SiO2混合,并将这些材料在水性介质中一起研磨至粒度D50为约0.2至1.5微米来制成。将该浆料干燥并在约800至1000℃下煅烧约1至5小时以形成包含BaO、WO3和SiO2的基体材料。然后将所得的基体材料机械粉碎并与助熔剂混合,并再次在水性介质中研磨至粒度D50为约0.5至1.0μm。将研磨过的陶瓷粉末干燥并粉碎以制备精细的粉末。可将所得的粉末压制成圆柱形粒料并在约775至约900℃、优选约800至约890℃、更优选约800至约875℃、更优选约825至约875℃、或者约845至约885℃、甚至更优选约840至约860℃或850℃至860℃的温度下烧制。最优选的单值为850℃或880℃。烧制进行的时间为约1至约200分钟,优选约5至约100分钟,更优选约10至约50分钟,还更优选约20至约40分钟,和最优选约30分钟。
本发明的一个实施方案是包含前体材料混合物的组合物,该组合物经烧制形成钡-钨-硅氧化物基体材料,该基体材料不含铅且不含镉,并且自身可以或与其他氧化物结合形成介电材料。
在一个优选的实施方案中,基体材料不含铅。在另一个优选的实施方案中,基体材料不含镉。在一个更优选的实施方案中,基体材料不含铅且不含镉。
在一个优选的实施方案中,基体材料包含(i)30-45重量%、优选37-44重量%的BaO,(ii)50-60重量%、优选51-58重量%的WO3,以及(iii)1-10重量%、优选3-7重量%的SiO2。
在一个优选的实施方案中,基体材料包含(i)30-50重量%、优选30-45重量%、更优选37-44重量%的BaO,(ii)40-70重量%、优选45-65重量%、更优选51-58重量%的WO3,以及(iii)0.1-15重量%、优选1-10重量%、更优选3-7重量%的SiO2。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于费罗公司,未经费罗公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680009889.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:水硬性组合物用分散剂组合物
- 下一篇:烧结用材料以及用于制造烧结用材料的粉末