[发明专利]一种量子点薄膜及其制作方法

权利要求书

1.一种量子点薄膜，其特征在于，包括：第一基材层、第二基材层、量子点发光层以及至少两个光阻部；所述第二基材层与所述第一基材层对置；所述量子点发光层和所述光阻部都位于所述第一基材层和所述第二基材层之间，所述光阻部位于所述量子点发光层的周缘；所述量子点发光层包括阻隔层和位于所述阻隔层内的量子点层。

2.根据权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于，

在同一纵截面中，所述光阻部包括第一光阻部和第二光阻部，所述第一光阻部和所述第二光阻部位于所述量子点发光层的同一侧，所述第一光阻部的厚度和所述第二光阻部的厚度之和与所述第一基材层和第二基材层之间的间距相等。

3.根据权利要求2所述的量子点薄膜，其特征在于，

所述第一光阻部的厚度和所述第二光阻部的厚度相等。

4.根据权利要求2所述的量子点薄膜，其特征在于，

所述第一光阻部与所述第二光阻部沿 水平方向对称。

5.根据权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于，所述光阻部的纵截面的形状为三角形，所述光阻部具有一底边，所述底边的边长位于3微米-2000微米范围内，所述底边靠近所述第一基材层或所述第二基材层侧。

6.根据权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于，

所述光阻部具有内侧面，所述内侧面与所述量子点发光层相邻，所述阻隔层部分位于所述第一基材层的内表面和所述第二基材层的内表面上，所述阻隔层的剩余部分位于所述光阻部的内侧面上。

7.根据权利要求1所述的量子点薄膜，其特征在于，所述光阻部的材料为光刻胶。