[发明专利]一种腔室和半导体设备

权利要求书

1.一种腔室，包括腔体、设置在所述腔体底部的基座、套置在所述腔体内壁的屏蔽环、叠置在所述屏蔽环下部的上表面边缘区域的遮蔽环，且所述遮蔽环位于所述基座边缘区域上方，其特征在于，还包括屏蔽装置，其中，

所述屏蔽装置环绕所述基座设置、且位于所述屏蔽环下方，用于密封所述屏蔽环和所述遮蔽环之间的间隙，所述间隙在所述基座上升顶起所述遮蔽环后形成。

2.根据权利要求1所述的腔室，其特征在于，所述屏蔽装置包括：

第一环状板，所述第一环状板环绕固定在所述基座侧壁或底壁；

第二环状板，所述第二环状板环绕固定在所述屏蔽环下方的边缘区域；

伸缩件，所述伸缩件为环绕所述基座的桶状，且其第一端固定在所述第二环状板上，第二端为悬空的自由端；

所述基座上升时带动所述第一环状板上升，当所述伸缩件与所述第一环状板接触后被压缩。

3.根据权利要求2所述的腔室，其特征在于，所述自由端上连接有第三环状板，

所述基座上升时带动所述第一环状板上升，当所述第三环状板与所述第一环状板接触后，所述伸缩件被压缩。

4.根据权利要求3所述的腔室，其特征在于，所述第三环状板与所述第一环状板之间设置弹性金属件。

5.根据权利要求1所述的腔室，其特征在于，所述屏蔽装置包括：

第一环状板，所述第一环状板环绕固定在所述基座的侧壁或底壁；

伸缩件，所述伸缩件为环绕所述基座的桶状，且其第一端固定在所述第一环状板上；

第二环状板，所述第二环状板与所述伸缩件的第二端固定，且随所述伸缩件上下移动；

所述基座上升时带动所述第一环状板、所述伸缩件和所述第二环状板上升，当所述第二环状板与所述屏蔽环接触后，所述伸缩件被压缩。

6.根据权利要求2～4任一所述的腔室，其特征在于，所述伸缩件为波纹管。

7.根据权利要求1所述的腔室，其特征在于，所述屏蔽环上设置有直径为1～3mm的进气孔。

8.根据权利要求1所述的腔室，其特征在于，在所述腔体顶部设置有靶材，在所述靶材上方设置有屏蔽罩。

9.根据权利要求8所述的腔室，其特征在于，在所述腔体上部设置有转接件，其中，

所述转接件与所述腔体之间设置有弹性金属件；

所述转接件与所述屏蔽罩之间设置有弹性金属件；和/或

所述转接件与所述屏蔽环之间设置有弹性金属件。

10.根据权利要求4或9所述的腔室，其特征在于，所述弹性金属件为铍铜簧片或导电线圈。

11.一种半导体设备，其特征在于，包括权利要求1～10任一所述腔室。