[发明专利]一种半导体集成OLED显示器及其制作方法

说明书

本发明涉及半导体集成OLED显示器以及制造方法，该显示器包括衬底基板，所述衬底基板上具有CMOS驱动电路，所述衬底基板上依次形成有像素阳极层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层、色彩过滤层和保护盖，所述发光层包括红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层，所述蓝光发光层包括至少两层发光层，所述红光发光层和绿光发光层串联后与蓝光发光层并列连接；所述色彩过滤层包括红光过滤层和绿光过滤层。本发明提出的半导体集成OLED显示器，能够降低通过蓝光发光层的电流，从而延长蓝光发光层的使用寿命，进而延长整个显示器的使用寿命；无需单独设计蓝光滤光层，有助于节约生产制造成本，并有助于节约能耗。

技术领域

本发明涉及一种显示器领域，尤其涉及一种半导体集成OLED显示器及其制作方法。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示器，也称为有机电致发光显示器，是一种新兴的平板显示装置，具有功耗低、自发光且发光亮度高、工作温度适应范围广、体积轻薄、响应速度快，而且易于实现彩色显示、易于实现和集成电路驱动器相匹配、易于实现柔性显示等优点。其中硅基OLED微显示技术是OLED光电子技术与硅基集成电路微电子技术的结合，主要应用在微显示领域。是利用成熟的CMOS集成电路工艺，芯片制作完好后，再进行OLED 器件的制作，从而提高了整个显示器的良率。OLED微显示器体积小，非常便于携带，并且其凭借小体积提供的近眼显示效果较为理想，伴随虚拟现实的快速发展需求，OLED微显示器将呈现快速发展趋势。

目前白光AMOLED显示器是一般由RGB三层发光层串联来产生RGB三基色，通过调整RGB三层发光层的含量来匹配出白光。传统的发光层为串联结构，因相同驱动电流作用下各层退化程度不同，尤其以蓝光的寿命衰退速度较为迅速，这样就致使一段时间后器件的颜色坐标发生偏移，从而影响整个发光器件的性能及使用寿命。

发明内容

本发明正是针对现有技术存在的不足，提供了一种半导体集成OLED显示器及其制作方法。

为解决上述问题，本发明所采取的技术方案如下：

一种半导体集成OLED显示器，包括衬底基板，所述衬底基板上具有CMOS驱动电路，所述衬底基板上依次形成有像素阳极层、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极层、色彩过滤层和保护盖，所述发光层包括红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层，所述蓝光发光层包括至少两层发光层，所述红光发光层和绿光发光层串联后与蓝光发光层并列连接；所述色彩过滤层包括红光过滤层和绿光过滤层。

优选地，在所述发光层中，所述蓝光发光层占发光层总长度的1/3。

优选地，在所述发光层中，所述蓝光发光层的厚度与红光发光层、绿光发光层的总厚度相等。

优选地，所述色彩过滤层对应蓝光发光层的位置采用透明材料制成。

优选地，所述色彩过滤层对应蓝光发光层的位置开设有通孔。

优选地，所述红光过滤层和绿光过滤层分别采用红光像素和绿光像素的感光材料。

优选地，所述衬底基板为含CMOS驱动电路的硅基衬底基板。

优选地，所述保护盖采用透明玻璃制成。

本发明还提出一种制造半导体集成OLED显示器的方法，包括以下步骤：提供一衬底基板，对该衬底基板进行包括清洗、干燥的预处理；

在衬底基板上涂抹反光阻，所述反光阻的涂抹厚度为0.08-1.121um，在已涂抹反光阻的衬底基板上涂抹正光阻，所述正光阻的涂抹厚度为1.0-1.5um,均匀度不小于0.5%；

将已涂抹反光阻和正光阻的衬底基板置于曝光机内进行曝光处理，曝光强度为300mj/cm²；