[发明专利]感光性组合物、固化物制法、固化膜、显示装置及触控板在审

专利信息
申请号: 201610952536.2 申请日: 2016-11-02
公开(公告)号: CN107015434A 公开(公告)日: 2017-08-04
发明(设计)人: 铃木成一;藤木优壮 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/027;G02F1/1333
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 感光性 组合 固化 制法 显示装置 触控板
【权利要求书】:

1.一种感光性组合物,其至少包含:

具有2个以上烯属不饱和键的化合物;

光聚合引发剂;

二氧化硅粒子;

选自由三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、若丹宁化合物、苯并噻唑化合物及苯并咪唑化合物组成的组中的至少1种杂环化合物;

马来酰亚胺化合物;和

溶剂,

感光性组合物中的相对于1mol烯属不饱和键的有机固体成分量为250g/mol以下。

2.根据权利要求1所述的感光性组合物,其中,

所述光聚合引发剂为肟酯化合物。

3.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,

所述二氧化硅粒子的含量相对于感光性组合物的全部固体成分为5质量%以上且低于40质量%。

4.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,

所述二氧化硅粒子的平均一次粒径为1~30nm。

5.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,

所述杂环化合物为下述式D1~式D11中的任一者所表示的化合物,

式D1~式D11中,R1、R5、R7、R9、R20及R25分别独立地表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基或氨基,R2~R4、R8、R10~R13、R15~R18、R22及R24分别独立地表示氢原子、烷基、芳基、杂芳基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、二烷基氨基、二芳基氨基、烷基芳基氨基、巯基、烷硫基或芳硫基,R6、R14、R21及R23分别独立地表示卤素原子、烷基、芳基、杂芳基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、二烷基氨基、二芳基氨基、烷基芳基氨基、巯基、烷硫基、芳硫基、羟基、烷氧基或芳氧基,R19表示氢原子、烷基、芳基或杂芳基,n1~n4分别独立地表示0~4的整数。

6.根据权利要求5所述的感光性组合物,其中,

所述杂环化合物为所述式D1、式D2及式D4~式D11中的任一者所表示的化合物。

7.根据权利要求5所述的感光性组合物,其中,

所述杂环化合物为所述式D4~式D11中的任一者所表示的化合物。

8.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,

所述马来酰亚胺化合物包含下述式E1所表示的化合物,

式E1中,Re1分别独立地表示单键、亚烷基、-SO2-、-SO-、-S-或-O-,Re2分别独立地表示卤素原子或烷基,m1表示0~5的整数,m2分别独立地表示0~4的整数。

9.根据权利要求1或2所述的感光性组合物,其中,

所述具有2个以上烯属不饱和键的化合物包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。

10.一种固化物的制造方法,其至少依次包含工序a~工序d:

工序a:将权利要求1或2所述的感光性组合物涂布到基板上的涂布工序;

工序b:从所涂布的感光性组合物中除去溶剂的溶剂除去工序;

工序c:将除去了溶剂的感光性组合物的至少一部分利用活性光线进行曝光的曝光工序;

工序d:将曝光后的感光性组合物进行热处理的热处理工序。

11.根据权利要求10所述的固化物的制造方法,其中,

在工序c与工序d之间包含工序e:

工序e:将曝光后的感光性组合物利用水性显影液进行显影的显影工序。

12.一种固化膜,其是将权利要求1或2所述的感光性组合物固化而成的。

13.根据权利要求12所述的固化膜,其为层间绝缘膜或外涂膜。

14.一种显示装置,其具有权利要求12所述的固化膜。

15.一种触控板,其具有权利要求12所述的固化膜。

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