[发明专利]一种晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610480930.0 申请日: 2016-06-27
公开(公告)号: CN105870263B 公开(公告)日: 2018-07-31
发明(设计)人: 邹帅;王栩生;邢国强 申请(专利权)人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0236
代理公司: 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 代理人: 陆金星
地址: 215129 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 绒面结构 晶体硅太阳能电池 制备 化学腐蚀液 碱性化学液 表面刻蚀 残留金属 多孔质层 硅片表面 使用寿命 腐蚀液 均匀性 去除 清洗
【权利要求书】:

1.一种晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1) 在硅片表面形成多孔质层结构;

(2) 用碱性化学液进行清洗;

(3) 采用第一清洗液去除残留金属颗粒;

(4) 然后用第一化学腐蚀液进行表面刻蚀;

所述第一化学腐蚀液为BOE和双氧水的混合溶液;

(5) 将上述硅片放入第二化学腐蚀液中进行浸渍;所述第二化学腐蚀液为碱液;

所述碱液选自氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液、氨水或四甲基氢氧化铵的任意一种或多种;即可得到晶体硅太阳能电池绒面结构。

2.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中,将硅片放入含有氧化剂以及金属盐的氢氟酸溶液中,形成多孔质层结构。

3.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中,先将硅片放入含有金属离子的溶液中浸泡,使硅片表面涂覆一层金属纳米颗粒;

然后用化学腐蚀液腐蚀硅片表面,形成多孔质层结构;

所述化学腐蚀液为HF和氧化剂的混合溶液。

4.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)和(2)之间、(2)和(3)之间、(3)和(4)之间还均设有水洗步骤。

5.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中,清洗时间为5~250 s;

所述碱性化学液中碱性物质的体积浓度为0.1~30%,温度为20~80℃;

所述碱性化学液选自氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液、氨水、氨水和双氧水的混合液、四甲基氢氧化铵中的任意一种或多种。

6.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中,所述第一清洗液选自以下4种溶液中的一种:盐酸和双氧水的混合液、氨水和双氧水的混合液、硝酸、氨水;

所述硝酸的体积浓度为5~69%;所述氨水的体积浓度为1~30%;

所述第一清洗液的温度为20~80℃。

7.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于,所述步骤(4)中的刻蚀时间为10~15 min。

8.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于,所述步骤(4)中的BOE中氟化氢和氟化铵的摩尔比为1:1~6;

所述步骤(4)中的第一化学腐蚀液中氢氟酸的浓度为1~15 mol/L,双氧水的浓度为1~15 mol/L。

9.根据权利要求1所述的晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于,所述步骤(5)之后,还包括如下步骤:

(6) 然后将上述硅片放入第二清洗液中进行清洗;

所述第二清洗液为盐酸和双氧水的混合液、氨水和双氧水的混合液中的任意一种混合液;

(7) 然后将上述硅片放入氢氟酸溶液中浸渍。

10.根据权利要求9所述的晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于:所述步骤(5)、(6)、(7)之前以及步骤(7)之后,还均设有水洗步骤。

11.一种晶体硅太阳能电池绒面结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1) 在硅片表面形成多孔质层结构;

(2) 用碱性化学液进行清洗,并去除孔底残留金属颗粒;

(3) 然后用第一化学腐蚀液进行表面刻蚀;

所述第一化学腐蚀液为BOE和双氧水的混合溶液;

(4) 将上述硅片放入第二化学腐蚀液中进行浸渍;所述第二化学腐蚀液为碱液;即可得到晶体硅太阳能电池绒面结构;

所述碱液选自氢氧化钠溶液、氢氧化钾溶液、氨水或四甲基氢氧化铵的任意一种或多种。

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