[实用新型]一种TO-220气密性框架结构有效

专利信息
申请号: 201520228628.7 申请日: 2015-04-15
公开(公告)号: CN204668294U 公开(公告)日: 2015-09-23
发明(设计)人: 诸建周;汤为 申请(专利权)人: 无锡罗姆半导体科技有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495
代理公司: 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 代理人: 李广
地址: 214000 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 to 220 气密性 框架结构
【权利要求书】:

1.一种TO-220气密性框架结构,包括芯片安装部,所述芯片安装部一端连接有散热片,所述散热片上设置有一圆形安装孔,所述芯片安装部另一端焊接有框架引线,其特征在于:所述芯片安装部上颈正面设置有第一凹槽和第二凹槽,背面设置有第一凹槽,所述第二凹槽设置在所述第一凹槽内。

2.根据权利要求1所述的一种TO-220气密性框架结构,其特征在于:所述第一凹槽长3.3mm宽0.9mm,所述第二凹槽长3.0mm宽0.7mm。

3.根据权利要求1所述的一种TO-220气密性框架结构,其特征在于:所述芯片安装部上边框、左边框以及右边框设置有斜角。

4.根据权利要求3所述的一种TO-220气密性框架结构,其特征在于:所述斜角的角度为15°。

5.根据权利要求3所述的一种TO-220气密性框架结构,其特征在于:所述斜角的深度为0.16±0.02mm。

6.根据权利要求1所述的一种TO-220气密性框架结构,其特征在于:所述芯片安装部上设置有第一正方形和第二正方形,其中所述第二正方形位于所述第一正方形内部。

7.根据权利要求6所述的一种TO-220气密性框架结构,其特征在于:所述第一正方形和第二正方形间距为0.1mm。

8.根据权利要求7所述的一种TO-220气密性框架结构,其特征在于:所述第一正方形和第二正方形的压痕深度为0.16mm±0.02。

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