[实用新型]半导体六寸线盒子的清洗装置有效
申请号: | 201520081236.2 | 申请日: | 2015-02-05 |
公开(公告)号: | CN204464247U | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | 宋红安 | 申请(专利权)人: | 苏州同冠微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 李杰 |
地址: | 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 六寸线 盒子 清洗 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,具体涉及一种半导体六寸线盒子的清洗装置。
背景技术
目前半导体六寸线盒子的清洗设备,普遍采用的是去离子水+高温氮气两道工序完成清洗,该传统清洗方式对盒子表面较小颗粒及油剂性颗粒无法彻底清洗,清洗质量不高,且高温氮气对盒子的吹扫烘干时间过长,浪费大量氮气。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种半导体六寸线盒子的清洗装置,能够有效清洁盒子表面较小颗粒及油剂性颗粒,节省氮气使用。
为实现上述目的,本实用新型所采用的技术方案是:所述清洗装置包括流通去离子水的清洗管路一和流通氮气的清洁管路,还包括流通异丙醇的清洗管路二,清洗管路一与清洗管路二在进行清洗前汇流,清洁管路用于清洗后对残留的去离子水和异丙醇吹扫清除。
所述清洗管路一与清洗管路二汇流部位设有三通阀门,清洗管路一还包括用于感应液体流速的流量感应器,清洗管路二包括提供异丙醇的供液桶和用于控制异丙醇流量的第二流量计量器,流量感应器控制第二流量计量器自动开启和闭合。
所述清洗管路二还包括第二过滤器,第二过滤器设于第二流量计量器与三通阀门之间。
所述清洗管路一还包括第一流量计量器、第一过滤器和第一阀门,按照去离子水流动方向,第一流量计量器设于流量感应器的前端,第一过滤器和第一阀门分别设于流量感应器的后端。
按照氮气流动方向,所述清洁管路上依次设有第三过滤器、第二阀门和加热器,加热器用于对氮气加热。
采用上述技术方案后,本实用新型具有以下积极效果:
(1)本实用新型加装清洗管路二,用于通入异丙醇,通过异丙醇与去离子水的混合对盒子表面清洗,由于异丙醇为有机溶剂,能够有效清洁盒子表面较小颗粒及油剂性颗粒,提高清洗质量,且异丙醇具有易挥发、脱水性强的特点,可有效缩短高温氮气对残留物的吹扫时间,节省氮气的使用;
(2)本实用新型的清洗管路一上设有流量感应器,所述清洗装置开始清洗时,用于感知清洗管路一上去离子水的流量,有去离子水流过时,流量感应器将信号传递给清洗管路二上的第二流量计量器使之开启,使异丙醇通过与去离子水混合,对盒子清洗,通过上述控制,能够准确感知信号,使所述清洗装置更加准确无误进行;
(3)本实用新型在清洁管路上设有加热器,对氮气加热,能够提高氮气的吹扫效率;
(4)本实用新型总体工艺时间缩短,降低氮气、电力等消耗,并延长加热器使用寿命,简单易行,具有较高的实用价值,便于推广应用。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明。
图1为本实用新型的半导体六寸线盒子的清洗装置结构示意图。
其中:1、清洗管路一,101、三通阀门,102、流量感应器,103、第一流量计量器,104、第一过滤器,105、第一阀门,2、清洗管路,201、第三过滤器,202、第二阀门,203、加热器,3、清洗管路二,301、供液桶,302、第二流量计量器,303、第二过滤器,4、清洗室。
具体实施方式
如图1所示,为本实用新型的半导体六寸线盒子的清洗装置,包括清洗管路一1、清洁管路2和清洗管路二3,清洗管路一1流通去离子水,清洁管路2流通高温氮气,清洗管路二3流通异丙醇,清洗管路一1与清洗管路二3用于对半导体六寸线盒子进行清洗,清洁管路2用于清洗工作结束后对残留的去离子水或异丙醇进行吹扫清除。
在清洗管路一1上,按照去离子水流动方向,依次设有第一流量计量器103、流量感应器102、第一过滤器104、第一阀门105和三通阀门101,第一流量计量器103用于控制去离子水的流动速度,流量感应器102用于感知去离子水的流速。
在清洗管路二3上,按照异丙醇流动方向,依次设有供液桶301、第二流量计量器302和第二过滤器303,第二流量计量器302与流量感应器102连接,流量感应器102能够控制第二流量计量器302自动开启和闭合,以此控制异丙醇是否在清洗管路二3上流通。清洗管路二3的末端与三通阀门101连通,清洗管路一1与清洗管路二3在三通阀门101处汇流,汇流完成在进行清洗工作之前。
在清洁管路2上,按照氮气流动方向,依次设有第三过滤器201、第二阀门202和加热器203,加热器203用于对流通的氮气加热,使氮气温度升高,提高吹扫效率。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造