[发明专利]电子模块和制造其的方法有效

专利信息
申请号: 201510272273.6 申请日: 2015-05-26
公开(公告)号: CN105304595B 公开(公告)日: 2018-04-06
发明(设计)人: 龙登超;潘添铭 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L23/48 分类号: H01L23/48;H01L23/495;H01L21/60
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 王岳,胡莉莉
地址: 德国瑙伊比*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子 模块 制造 方法
【说明书】:

技术领域

各种实施例涉及电子模块和制造电子模块的方法。

背景技术

在很多技术领域中,电子模块(例如所谓的功率模块)用于向电气部件或器件提供或切换功率。一个可能的领域是例如汽车领域或不间断电源。大部分功率模块包括至少一个晶体管,例如IGBT(绝缘栅双极晶体管)或MOSFET。一般,例如以包括由模塑料形成的壳体或封装的所谓的管壳的形式提供电子模块。

在目前工艺水平下,由于相对长的导体或电流路径,管壳或模块在很大程度上有助于所谓的杂散电感或电磁干扰和相应的寄生效应。此外,当流经电子模块的电流的量增加时,杂散电感和电磁干扰被增加,这个增加在很多应用中是期望的。

发明内容

各种实施例提供电子模块,其包括:布置在电子模块中并包括输入端子和输出端子的电子芯片;电连接到输入端子的第一电流路径;电连接到输出端子的第二电流路径;以及布置在第一电流路径和第二电流路径之间的绝缘物,其中第一电流路径和第二电流路径在相同的方向上延伸并被布置成极接近于彼此。

此外,各种实施例提供电子模块,其包括:布置在电子模块中并包括第一端子和第二端子的管芯;电连接到第一端子的第一电流路径;电连接到第二端子并平行于第一电流路径延伸的第二电流路径;以及布置在第一电流路径和第二电流路径之间的绝缘物,其中在第一电流路径中的电流在与在第二电流路径中流动的电流相反的方向上流动。

而且,各种实施例提供制造电子模块的方法,该方法包括提供包括第一电流路径的载体;在第一电流路径上形成绝缘体;将电子芯片布置在载体上并接触第一电流路径;将第二电流路径布置在绝缘体上并接触电子芯片。

附图说明

在附图中,相似的参考符号遍及视图通常指的是相同的部件。附图并不一定按比例,相反通常将重点放在说明本发明的原理上。在下面的描述中,参考下面的附图描述了各种实施例,其中:

图1示意性示出根据示例性实施例的可在电子模块中使用的电流路径的总布局图;

图2A到2D示意性示出根据不同的示例性实施例的电子模块;

图3A到3D示意性示出根据示例性实施例的电子模块的细节;

图4示意性示出根据示例性实施例的电子模块的透视图;

图5示出制造电子模块的方法的流程图。

具体实施方式

在下文中,将解释电子模块、电子系统和制造电子系统的方法的另外的示例性实施例。应注意,在一个特定的示例性实施例的上下文中描述的特定特征的描述也可与其它示例性实施例组合。

词“示例性”在本文用于意指“用作例子、实例或例证”。在本文被描述为“示例性”的任何实施例或设计不一定应被解释为比其它实施例或设计优选的或有利的。

各种示例性实施例提供电子模块,其包括:布置在电子模块中并包括第一端子和第二端子的管芯;电连接到第一端子的第一电流路径;电连接到第二端子电子芯片的第二电流路径,其中第一电流路径和第二电流路径相对于彼此被布置,使得在电子模块的操作期间,由第一和第二电流路径引起的杂散电感至少部分地彼此抵消。

特别是,电子模块可包括晶体管,例如功率晶体管,即适合于经得起大于1A、大于10A或甚至大于50A的电流的晶体管。电流路径可以是例如通过使用沉积和/或图案化技术在支承结构上布置、设置、印刷或形成的电流路径,或可以是自支承结构,如引线或引线框。术语“电流路径”可特别地表示适合于指引或传导电流的元件或结构。特别是,电流路径可由连接器、引线、管脚、导体路径等形成。为了清楚的原因,应注意,术语电流路径与物理结构本身有关,且必须与流经电流路径并可原则上在穿过电流路径的两个方向上的实际电流流动区分开。特别是,电流流动可以在第一电流路径中的一个方向上和在第二电流路径中的相反方向上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司,未经英飞凌科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510272273.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top