[发明专利]光配向膜及其制作方法、显示基板和显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种光配向膜及其制作方法、显示基板和显示装置。

背景技术

在阵列基板与彩膜基板对盒形成显示面板之前需要在阵列基板和彩膜基板的表面涂覆一层配向膜(一般组分为聚酰亚胺PI，简称PI膜)，然后通过摩擦(Rubbing)工艺在配向膜表面形成一定朝向的沟槽。现有摩擦配向方式为：利用绒毛的摩擦辊滚动摩擦所述配向膜，从而形成统一方向的预倾角，通过有序方向的沟槽具有的锚定能，使得液晶分子沿同一方向以预倾角倾斜定向排列。但是摩擦配向会对所述配向膜造成颗粒污染，影响产品良率；同时还会产生静电，损伤液晶面板。

为了克服上述不足，业界内逐步发展了光配向技术。通过线性偏振的紫外UV光照射在具有感光剂的聚合物配向膜上。通过光交联、降解或者异构化反应，使配向膜在配向区域和非配向区域产生异向分布差异。此方法可以避免接触式摩擦带来的颗粒和静电，而且可以进行小面积的配向。但是，获取线性偏振的UV光较为复杂，设备维护较难，且控制区域有限，操作复杂，不便于生产线使用。

因此，需要提供一种新的光配向方法，以解决上述问题。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明提供一种光配向膜及其制作方法、显示基板和显示装置，以解决现有技术中制作光配向膜工艺较为复杂的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供以下技术方案：

第一方面，本发明提供了一种光配向膜的制备方法，包括：

在基板上形成光配向材料膜层；

利用干涉光照射所述光配向材料膜层，去除所述光配向材料膜层被干涉光照射分解的部分，以形成具有凹凸交替的沟槽结构的光配向膜。

其中，所述利用干涉光照射所述光配向材料膜层，去除所述光配向材料膜层被干涉光照射分解的部分，以形成具有凹凸交替的沟槽结构的光配向膜包括：

利用干涉光照射所述光配向材料膜层，在所述光配向材料膜层上形成明暗相间的干涉条纹，其中对应于明干涉条纹处的光配向材料膜分解，对应于暗干涉条纹处的光配向材料膜保留；

对干涉光照射后的光配向材料膜层进行清洗，去除光配向材料膜层被干涉光照射分解的部分，以形成具有凹凸交替的沟槽结构的光配向膜。

其中，在利用干涉光照射所述光配向材料膜层之前，所述方法还包括：

利用干涉光形成装置形成干涉光，包括：

使用包括依次设置的光源、第一透光板和第二透光板，所述第一透光板具有一个狭缝，所述第二透光板具有相距预设距离的两个狭缝的干涉光形成装置形成干涉光，其中，所述光源产生的光通过第一透光板的狭缝后再穿过第二透光板的两个狭缝后形成干涉光。

其中，利用干涉光照射所述光配向材料膜层，去除光照分解的光配向材料膜层部分，以形成具有凹凸交替的沟槽结构的光配向膜包括：

利用所述干涉光形成装置形成的干涉光照射所述光配向材料膜层，在所述光配向材料膜层上形成明暗相间的干涉条纹，明干涉条纹和暗干涉条纹的宽度之和为x＝L*λ/d；其中对应于明干涉条纹处的光配向材料膜分解，对应于暗干涉条纹处的光配向材料膜保留；

对干涉光照射后的光配向材料膜层进行清洗，去除光配向材料膜层被干涉光照射分解的部分，以形成周期为x的凹凸交替的沟槽结构的光配向膜；

其中，λ为光源产生的光的波长，L为第二透光板与所述光配向材料膜层的距离，d为第二透光板上两个狭缝之间的距离。

其中，所述光源产生的光的波长λ为200nm～400nm。

其中，所述光配向材料膜层为具有感光特性的聚酰亚胺膜层。

其中，所述在基板上形成光配向材料膜层包括：在基板上涂覆具有感光特性的聚酰亚胺溶液并固化。

其中，所述清洗采用超声波清洗、大气压等离子清洗、浸泡清洗、喷淋清洗中的一种或多种清洗方法。

其中，所述清洗所使用的清洗剂包括臭氧水溶液、氟气水溶液、氯气水溶液、溴气水溶液、碘水溶液、过氧化氢、水、乙醇、异丙醇、乳酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或多种。

其中，所述干涉光为紫外干涉光。

第二方面，本发明还提供了一种光配向膜，其由上述的光配向膜的制备方法制备得到。

第三方面，本发明还提供了一种显示基板，包括上述的光配向膜。

第四方面，本发明还提供了一种显示装置，包括上述的显示基板。

由上述技术方案可知，本发明所述的光配向膜的制备方法，利用干涉光照射光配向材料膜层完成了光配向，形成了光配向膜，工艺简单，成本较低、易实现。