[发明专利]光配向膜及其制作方法、显示基板和显示装置

权利要求书

1.一种光配向膜的制备方法，其特征在于，包括：

在基板上形成光配向材料膜层；

利用干涉光照射所述光配向材料膜层，去除所述光配向材料膜层被干涉光照射分解的部分，以形成具有凹凸交替的沟槽结构的光配向膜。

2.根据权利要求1所述的光配向膜的制备方法，其特征在于，所述利用干涉光照射所述光配向材料膜层，去除所述光配向材料膜层被干涉光照射分解的部分，以形成具有凹凸交替的沟槽结构的光配向膜包括：

利用干涉光照射所述光配向材料膜层，在所述光配向材料膜层上形成明暗相间的干涉条纹，其中对应于明干涉条纹处的光配向材料膜分解，对应于暗干涉条纹处的光配向材料膜保留；

对干涉光照射后的光配向材料膜层进行清洗，去除光配向材料膜层被干涉光照射分解的部分，以形成具有凹凸交替的沟槽结构的光配向膜。

3.根据权利要求1所述的光配向膜的制备方法，其特征在于，在利用干涉光照射所述光配向材料膜层之前，所述方法还包括：

利用干涉光形成装置形成干涉光，包括：

使用包括依次设置的光源、第一透光板和第二透光板，所述第一透光板具有一个狭缝，所述第二透光板具有相距预设距离的两个狭缝的干涉光形成装置形成干涉光，其中，所述光源产生的光通过第一透光板的狭缝后再穿过第二透光板的两个狭缝后形成干涉光。

4.根据权利要求3所述的光配向膜的制备方法，其特征在于，利用干涉光照射所述光配向材料膜层，去除光照分解的光配向材料膜层部分，以形成具有凹凸交替的沟槽结构的光配向膜包括：

利用所述干涉光形成装置形成的干涉光照射所述光配向材料膜层，在所述光配向材料膜层上形成明暗相间的干涉条纹，明干涉条纹和暗干涉条纹的宽度之和为x＝L*λ/d；其中对应于明干涉条纹处的光配向材料膜分解，对应于暗干涉条纹处的光配向材料膜保留；

对干涉光照射后的光配向材料膜层进行清洗，去除光配向材料膜层被干涉光照射分解的部分，以形成周期为x的凹凸交替的沟槽结构的光配向膜；

其中，λ为光源产生的光的波长，L为第二透光板与所述光配向材料膜层的距离，d为第二透光板上两个狭缝之间的距离。

5.根据权利要求4所述的光配向膜的制备方法，其特征在于，所述光源产生的光的波长λ为200nm～400nm。

6.根据权利要求1-5任一所述的光配向膜的制备方法，其特征在于，所述光配向材料膜层为具有感光特性的聚酰亚胺膜层。

7.根据权利要求6所述的光配向膜的制备方法，其特征在于，所述在基板上形成光配向材料膜层包括：在基板上涂覆具有感光特性的聚酰亚胺溶液并固化。

8.根据权利要求2或4所述的光配向膜的制备方法，其特征在于，所述清洗采用超声波清洗、大气压等离子清洗、浸泡清洗、喷淋清洗中的一种或多种清洗方法。

9.根据权利要求2或4所述的光配向膜的制备方法，其特征在于，所述清洗所使用的清洗剂包括臭氧水溶液、氟气水溶液、氯气水溶液、溴气水溶液、碘水溶液、过氧化氢、水、乙醇、异丙醇、乳酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或多种。

10.根据权利要求1-4任一所述的光配向膜的制备方法，其特征在于，所述干涉光为紫外干涉光。

11.一种光配向膜，其特征在于，由权利要求1-10任一所述的光配向膜的制备方法制备得到。

12.一种显示基板，其特征在于，包括权利要求11所述的光配向膜。

13.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求12所述的显示基板。