[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种从喷嘴喷出处理液而对半导体晶片或者液晶显示装置用玻璃基板等薄板状的精密电子基板(下面仅称为“基板”)进行规定的处理的基板处理装置以及基板处理方法。

背景技术

以往以来，在半导体器件等的制造工序中，对基板供给纯水、光致抗蚀液、蚀刻液等各种处理液来进行清洗处理或者抗蚀剂涂敷处理等基板处理。作为使用这些处理液进行液体处理的装置，广泛使用着一边使基板以水平姿势旋转一边从喷嘴对该基板的表面喷出处理液的基板处理装置。

在这样的基板处理装置中，根据流量计的输出或者泵的动作确认来进行是否从喷嘴喷出处理液的确认，而作为更可靠地判定喷出的有无的方法，例如在专利文献1中提出了设置CCD照相机等拍摄装置来直接监视从喷嘴喷出处理液的情况的提案。

专利文献1：JP特开平11-329936号公报。

但是，在通过拍摄装置直接监视从喷嘴喷出处理液的状况的情况下，根据成为处理对象的基板的种类的不同，拍摄时的背景也不同。即，一般在基板的表面形成抗蚀膜或绝缘膜等各种膜而形成图案。而根据这样的膜的种类或所形成的图案的不同，基板表面的反射率也有很大不同，其结果是，根据成为处理对象的基板的种类的不同，拍摄时的背景也不同。另外，即使是形成了相同种类的膜，例如在使用氢氟酸进行蚀刻处理时，在处理时间流逝的同时，也进行着膜的腐蚀，存在基板表面的反射率也在变化的情况。因此，产生了如下这样的问题：基于在表面形成的膜的种类、所形成的图案、处理内容等各种因素，由拍摄装置拍摄的图像的噪声变大，不能准确地检测出从喷嘴喷出处理液的情况。

另外，在专利文献1所公开的技术中，由于利用拍摄装置来监视从喷嘴喷出处理液的情况，因此，例如在从喷嘴发生滴洒现象这样的情况下能够检测到该情况，但是喷嘴自身即使发生了位置偏离，也不能检测到该情况。一般在基板处理装置中，喷出处理液的喷嘴利用旋转式的臂部等能够在待机位置与处理位置之间移动，在规定的时刻移动到预先示教的处理位置而进行处理液的喷出处理。

但是，由于维护保养时的调整失误或者历时变化等，存在喷嘴移动到从所示教的处理位置偏离的位置而喷出处理液的情况。存在如下问题：在产生这样的喷嘴的位置偏离的情况下，不能得到原本期待的处理结果。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其第一个目的在于提供一种基板处理装置以及基板处理方法，成为处理对象的基板的种类无论怎样，都能够确实的检测出从喷嘴喷出处理液的情况。

另外，本发明的第二个目的在于提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够检测出喷嘴的位置偏离。

为解决上述问题，技术方案1的发明是一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持部，其用于保持基板；杯部，其将所述基板保持部的周围包围；喷嘴，其用于喷出处理液；驱动部，其使所述喷嘴在所述基板保持部所保持的基板的上方的处理位置与比所述杯部更靠外侧的待机位置之间进行移动；拍摄部，其对包含所述处理位置处的所述喷嘴的前端的拍摄区域进行拍摄；判定部，其将在移动到所述处理位置的所述喷嘴喷出处理液之前由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的第一基准图像与之后对所述拍摄区域进行拍摄而获取的监视对象图像进行比较，来判定从所述喷嘴喷出处理液的情况；所述拍摄部每当在所述基板保持部保持着成为新的处理对象的基板并且所述喷嘴移动到所述处理位置时获取第一基准图像。

另外，技术方案2的发明，是如技术方案1所述的基板处理装置，其特征在于，还具有存储部，该存储部用于存储判定区域，该判定区域是在由所述拍摄部对所述拍摄区域进行拍摄而获取的图像之中的包含从所述喷嘴的前端起至所述基板保持部所保持的基板为止的一部分的区域，若第一基准图像以及监视对象图像的在所述判定区域的差分为规定的阈值以上，所述判定部就判定从所述喷嘴正在喷出处理液。

另外，技术方案3的发明，是如技术方案2所述的基板处理装置，其特征在于，所述拍摄部从所述基板保持部保持着成为新的处理对象的基板并且所述喷嘴从所述待机位置向着所述处理位置开始移动的时刻起，以规定间隔连续对所述拍摄区域进行拍摄，若由所述拍摄部对所述拍摄区域进行连续拍摄而获取的连续的图像的差分为一定值以下，所述判定部就判定所述喷嘴停止了移动。

另外，技术方案4的发明，是如技术方案3所述的基板处理装置，其特征在于，所述判定部将由所述拍摄部连续获取的图像之中的在判定所述喷嘴停止了移动的时刻的图像作为第一基准图像。