[发明专利]电极对、其制作方法、器件用基板以及器件有效

专利信息
申请号: 201480047142.1 申请日: 2014-03-09
公开(公告)号: CN105474398B 公开(公告)日: 2018-11-13
发明(设计)人: 真岛丰;寺西利治;武下宗平 申请(专利权)人: 国立研究开发法人科学技术振兴机构
主分类号: H01L29/66 分类号: H01L29/66;B82B3/00;B82Y30/00;H01L29/06;H01L29/417;H01Q19/06
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 梁海莲;余明伟
地址: 日本国埼*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电极 制作方法 器件 用基板 以及
【权利要求书】:

1.一种器件用基板,其特征在于,具备:基板、以一方电极和另一方电极具有间隙的方式设置于所述基板上的电极对、以及以覆盖所述电极对的方式设置的绝缘层,

在所述一方电极、所述另一方电极、还有所述基板以及所述绝缘层之间形成有空间,所述空间为空的状态,

所述一方电极以及所述另一方电极分别具备:朝一方向延伸的主体部,以及自所述主体部以相互的顶端面对面的方式延伸并接近的接近部,所述主体部与所述基板接触,所述接近部不与所述基板接触且所述接近部以随着接近所述顶端而自所述基板远离的方式弯曲,

所述接近部具有凸的外形曲面,该凸的外形曲面形成为相对于自所述主体部朝向所述顶端的轴垂直的剖面面积随着接近所述顶端而变小,

在所述接近部中,包含所述主体部延伸的轴线并垂直于所述基板的剖面形状中的上部和下部均弯曲成如同圆弧或椭圆弧那样的二次曲线的一部分。

2.一种器件,其特征在于:

以具有纳米间隙的方式具备如权利要求1所述的器件用基板,

将所述一方电极以及所述另一方电极作为源极、漏极的各电极,

在所述纳米间隙配置有纳米粒子或者功能性分子,

所述一方电极和所述另一方电极和所述纳米粒子或功能性分子被所述绝缘层覆盖。

3.根据权利要求2所述的器件,其特征在于:

所述一方电极和所述另一方电极分别包括:金属层,以及设置于该金属层和所述基板之间并将该金属层密接于所述基板的密接层,

所述接近部包括所述金属层。

4.一种如权利要求1所述的器件用基板的制作方法,其特征在于:

将以具有初期间隙的方式隔开间隔地形成有种电极对的基板准备为样品,

将所述样品浸入无电解镀液时,当经过一定时间则交换所述无电解镀液,从而以作为电极对的一方电极以及另一方电极具有纳米间隙的方式来进行制作。

5.根据权利要求4所述的器件用基板的制作方法,其特征在于:

通过调整所述无电解电镀液的交换次数,使一方电极和另一方电极之间的间隙保持在一定,并且使相向的面沿纵向延伸。

6.一种纳米器件的制作方法,其特征在于,使用权利要求4所述的器件用基板的制作方法,并且在所述纳米间隙配置纳米粒子或者功能性分子。

7.一种电极对,其特征在于:

一方电极和另一方电极以具有纳米间隙并面对面的方式设置于同一面上,所述一方电极和所述另一方电极的面对面部分以随着相互接近而自所述面远离的方式弯曲,

所述面对面部分具有相向面,所述相向面保持纳米等级的一定范围的间隙地彼此相向,

所述一方电极以及所述另一方电极分别具备:朝一方向延伸的主体部,以及自该主体部以相互的顶端面对面的方式延伸并接近的接近部,所述主体部与基板接触,所述接近部不与所述基板接触且所述接近部以随着接近所述顶端而自所述基板远离的方式弯曲,

所述接近部具有凸的外形曲面,该凸的外形曲面形成为相对于自所述主体部朝向所述顶端的轴垂直的剖面面积随着接近所述顶端而变小,

在所述接近部中,包含所述主体部延伸的轴线并垂直于所述基板的剖面形状中的上部和下部均弯曲成如同圆弧或椭圆弧那样的二次曲线的一部分。

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