[发明专利]液晶面板及其制作方法

权利要求书

1.一种液晶面板，包括：第一基板(1)、设于第一基板(1)上的TFT层(2)、设于TFT层(2)上的色阻层(3)、设于色阻层(3)上的光阻间隙物层(4)、设于色阻层(3)和光阻间隙物层(4)上的保护层(5)、贯穿色阻层(3)和保护层(5)的过孔(6)、形成于保护层(5)上通过过孔(6)与TFT层(2)电性连接的像素电极层(7)、以及与第一基板(1)相对设置的第二基板(8)，其特征在于，所述光阻间隙物层(4)与所述色阻层(3)中的一种或者数种色阻的材料相同，并且所述光阻间隙物层(4)与所述色阻层(3)在制作过程中同时形成。

2.如权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述色阻层(3)包括第一色阻(31)、第二色阻(32)和第三色阻(33)，所述光阻间隙物层(4)包括主要光阻间隙物(41)和次要光阻间隙物(42)，并且所述主要光阻间隙物(41)的高度大于所述次要光阻间隙物(42)的高度，所述次要光阻间隙物(42)位于第一色阻(31)上，所述主要光阻间隙物(41)位于第二色阻(32)上；所述次要光阻间隙物(42)与第二色阻(32)的材料相同，且二者在同一光罩制程中形成；所述主要光阻间隙物(41)和第三色阻(33)的材料相同，且二者在同一光罩制程中形成。

3.如权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述色阻层(3)包括第一色阻(31)、第二色阻(32)和第三色阻(33)，所述光阻间隙物层(4)包括主要光阻间隙物(41)和次要光阻间隙物(42)，并且所述主要光阻间隙物(41)的高度大于所述次要光阻间隙物(42)的高度，所述主要光阻间隙物(41)和次要光阻间隙物(42)位于第一色阻(31)上；所述主要光阻间隙物(41)、次要光阻间隙物(42)和第二色阻(32)的材料相同，且三者在同一光罩制程中形成。

4.如权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述色阻层(3)包括第一色阻(31)、第二色阻(32)和第三色阻(33)，所述光阻间隙物层(4)包括主要光阻间隙物(41)和次要光阻间隙物(42)，并且所述主要光阻间隙物(41)的高度大于所述次要光阻间隙物(42)的高度，所述次要光阻间隙物(42)位于第一色阻(31)上，所述主要光阻间隙物(41)位于第二色阻(32)上；所述主要光阻间隙物(41)、次要光阻间隙物(42)和第三色阻(33)的材料相同，且三者在同一光罩制程中形成。

5.如权利要求1所述的液晶面板，其特征在于，所述色阻层(3)包括第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻，所述光阻间隙物层(4)包括主要光阻间隙物(41)和次要光阻间隙物(42)，并且所述主要光阻间隙物(41)的高度大于所述次要光阻间隙物(42)的高度。

6.一种液晶面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、提供第一基板(1)，在所述第一基板(1)上沉积TFT层(2)；

步骤2、在所述TFT层(2)上形成色阻层(3)和光阻间隙物层(4)，所述光阻间隙物层(4)位于所述色阻层(3)上方，且与所述色阻层(3)在制作过程中同时形成；

步骤3、在色阻层(3)和光阻间隙物层(4)上形成保护层(5)，并在色阻层(3)和保护层(5)上通过干蚀刻或湿蚀刻工艺形成过孔(6)；

步骤4、在所述保护层(5)上通过溅射工艺形成ITO薄膜，通过湿蚀刻工艺形成像素电极层(7)，所述像素电极层(7)通过过孔(6)与TFT层(2)形成电性连接；

步骤5、提供第二基板(8)，在所述第一基板(1)与第二基板(8)之间灌注液晶分子，并对所述第一基板(1)与第二基板(8)进行封装。