[发明专利]衬底处理设备

权利要求书

1.一种衬底处理设备，其特征在于包括：

腔壳，具有衬底处理空间，所述腔壳由底壁、上壁，以及将所述底壁连接到所述上壁的侧壁界定；

衬底平台，经配置以在所述衬底处理空间内在第一轴向方向以及与所述第一轴向方向交叉的第二轴向方向上移动；

电缆导管，配置在所述衬底平台之下以保护供应电流到衬底平台的电缆；

侧壁排气单元，分别沿着所述腔壳的所述侧壁安置，所述侧壁排气单元经配置以将由所述衬底平台的移动在所述衬底平台与所述侧壁之间产生的气流引导到外部；

下部阻断本体，耦合到所述电缆导管，所述下部阻断本体经配置以阻断被引入到衬底的下侧的气流，以反射所述气流朝向所述侧壁排气单元，

其中所述侧壁排气单元中的每一个包括：

侧壁排气本体，分别沿着所述腔壳的所述侧壁安置，所述侧壁排气本体中的每一个经配置以吸入平行于所述腔壳的所述底壁流动的气体以将吸入的所述气体排出到所述外部；

侧壁排气板，经配置以将所述衬底处理空间内的所述气流的方向改变成平行于所述腔壳的所述底壁的方向，所述侧壁排气板包括：

侧壁排气单元上部板，连接到所述侧壁排气本体的上部末端表面且

朝向所述腔壳的所述衬底处理空间突出；

侧壁排气扩展上部板，所述侧壁排气扩展上部板能够通过从所述侧壁排气单元上部板朝向所述腔壳的所述衬底处理空间向前或向后滑动扩展的，以能够根据所述衬底平台的大小来调整突出长度；以及

喷嘴，安置在所述腔壳的所述上壁上以将气体喷射到所述衬底处理空间的下侧中，所述喷嘴在所述第二轴向方向上纵向地安置。

2.根据权利要求1所述的衬底处理设备，其中所述侧壁排气单元包括：

侧壁排气外壳，沿着所述腔壳的所述侧壁中的每一个安置；

侧壁排气通道管，具有界定在所述侧壁排气外壳中的排气通道以及界定在面向所述衬底平台的表面中的排气孔；以及

侧壁排气端口，连接到所述侧壁排气通道管的内部以将所述排气通道内的所述气体排出到所述外部。

3.根据权利要求2所述的衬底处理设备，其中所述侧壁排气板进一步包括：

侧壁排气下部板，从所述侧壁排气通道管的下部末端表面朝向所述腔壳的所述底壁突出。

4.根据权利要求3所述的衬底处理设备，其中所述侧壁排气上部板安置在与所述衬底平台的下部表面的位置相同或低于所述衬底平台的下部表面的位置处。

5.根据权利要求3所述的衬底处理设备，其中所述侧壁排气下部板朝向所述腔壳的所述底壁倾斜地突出，以使得其末端接触所述腔壳的所述底壁。

6.根据权利要求1所述的衬底处理设备，进一步包括：

第一轴向传送支架，包括在所述第一轴向方向上彼此间隔开而安置的一对导轨；以及

第二轴向传送支架，具有在所述第二轴向方向上对应于所述第一轴向传送支架的所述一对导轨之间的长度的长度，所述第二轴向传送支架在所述第一轴向方向上沿着所述第一轴向传送支架滑动，

其中所述衬底平台安置在所述第二轴向传送支架上并且沿着所述第二轴向方向沿着所述第二轴向传送支架向前或向后滑动。