[发明专利]触摸面板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201410539487.0 申请日: 2014-10-13
公开(公告)号: CN104298403A 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 叶本银;叶虹呐;王锡彬;柳皓笛 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;G06F3/044
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 触摸 面板 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种触摸面板的制作方法,其特征在于,包括:

提供多个蓝宝石基片;

提供载体模具,所述载体模具包括基体,所述基体上形成有与多个所述蓝宝石基片相对应的多个凹槽;

将多个所述蓝宝石基片放在相对应的凹槽内;

在所述蓝宝石基片上形成感应层。

2.根据权利要求1所述的触摸面板的制作方法,其特征在于,所述制作方法还包括在所述蓝宝石基片上形成感应层之前进行的:在蓝宝石基片上形成用于粘附感应层的粘附层。

3.根据权利要求2所述的触摸面板的制作方法,其特征在于,所述感应层包括氧化铟锡制成的触控电极,所述粘附层包括硅的氮化物膜和/或硅的氧化物膜。

4.根据权利要求3所述的触摸面板的制作方法,其特征在于,所述粘附层包括硅的氮化物膜和硅的氧化物膜;

在蓝宝石基片上形成粘附层的步骤包括:

将承载有蓝宝石基片的载体模具放入工艺腔室,向工艺腔室内通入硅烷、氨气和氮气的混合气体,以在所述蓝宝石基片上形成硅的氮化物膜;

向工艺腔室内通入硅烷和一氧化二氮的混合气体,以在所述硅的氮化物膜上形成硅的氧化物膜。

5.根据权利要求4所述的触摸面板的制作方法,其特征在于,所述工艺腔室为真空腔室。

6.根据权利要求2所述的触摸面板的制作方法,其特征在于,所述制作方法还包括:在所述粘附层上形成遮光件,所述遮光件环绕在所述触摸面板的感应区域周围。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的制作方法,其特征在于,所述凹槽的长度比设置在该凹槽内的蓝宝石基片的长度大0.05~0.25mm;和/或

所述凹槽的宽度比设置在该凹槽内的蓝宝石基片的宽度大0.05~0.25mm。

8.根据权利要求1至6中任意一项所述的触摸面板的制作方法,其特征在于,制作载体模具的步骤包括:

提供基体;

利用光刻构图工艺在所述基体上形成与多个所述蓝宝石基片相对应的多个凹槽。

9.根据权利要求1至6中任意一项所述的触摸面板的制作方法,其特征在于,在所述蓝宝石基片上形成感应层的步骤包括:

在所述蓝宝石基片上形成氧化铟锡膜层;

通过光刻构图工艺在所述氧化铟锡膜层上形成包括多组触控电极的图形。

10.根据权利要求9所述的触摸面板的制作方法,其特征在于,每组所述触控电极包括第一电极和第二电极,所述第一电极和第二电极为梳状电极,在每组所述触控电极中,所述第一电极和所述第二电极的梳齿交替设置。

11.一种触摸面板,其特征在于,所述触摸面板由权利要求1至10中任意一项所述的制作方法制成。

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