[发明专利]物体保持器和光刻设备

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求享有2012年5月29日提交的第61/652,602号美国临时申请的优先权、以及2012年10月3日提交的第61/744,740号美国临时申请的优先权，并且通过整体引用将其并入本文。

技术领域

本发明涉及一种物体保持器、一种光刻设备以及一种器件制造方法。

背景技术

光刻设备是施加所需图案至衬底之上(通常至衬底的目标部分之上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在该情形中，备选地称作掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生将要形成在IC的各个层上的电路图案。该图案可以转移至衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括一个或数个裸片的一部分)之上。图案的转移通常经由成像至设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层之上。通常，单个衬底将包含相继图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进机，其中通过将整个图案一次曝光至目标部分之上而辐射每个目标部分，以及所谓的扫描机，其中在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描图案而同时平行于或反平行于该方向扫描衬底来辐射每个目标部分。也可能通过压印图案至衬底之上而将图案从图案形成装置转移至衬底。

已经提出了在光刻投影设备中将衬底浸入具有相对高折射率的液体(例如水)中，以便于填充投影系统的最终元件与衬底之间的空间。在实施例中，液体是蒸馏水，但是可以使用其他液体。本发明的实施例将参照液体进行描述。然而，另外的流体可以是合适的，特别是润湿流体，不可压缩的流体和/或具有比空气更高折射率的流体，希望的是比水更高的折射率。排除了气体的流体是特别希望得到的。该要点在于使得能够成像更细微特征，因为曝光辐射将在液体中具有更短波长。(液体的效应也可以视作增大了系统的有效数值孔径(NA)并且也增大了焦点的深度。)已经提出了其他沉浸液体，包括其中悬浮有固体颗粒(例如石英)的水，或者具有纳米颗粒悬浮物的液体(例如具有至多10nm的最大尺寸的颗粒)。悬浮颗粒可以或者可以不与它们悬浮在其中的液体具有类似或相同的折射率。可能合适的其他液体包括烃，诸如芳香烃、氟代烃、和/或水溶液。

将衬底或者衬底与衬底台浸入液浴中(参见例如第4,509,852号美国专利)意味着在扫描曝光期间必须累积大量的液体。这需要额外的或更大功率的电机，并且液体中的湍流可以导致不希望的和不可预料的效应。

在沉浸式设备中，沉浸流体由流体处理系统、装置结构或设备进行处理。在实施例中，流体处理系统可以供应沉浸流体并且因此是流体供应系统。在实施例中，流体处理系统可以至少部分地限制沉浸流体并且由此是流体限制系统。在实施例中，流体处理系统可以向沉浸流体提供阻挡件并且由此是阻挡构件，诸如流体限制结构。在实施例中，流体处理系统可以形成或者使用气流，例如用于帮助控制沉浸流体的流动和/或位置。气流可以形成密封以限制沉浸流体，因此流体处理结构可以称作密封构件；该密封构件可以是流体限制结构。在实施例中，沉浸液体用作沉浸流体。在该情形中流体处理系统可以是液体处理系统。参照前述描述，在该段落中对相对于流体定义的特征的引用可以理解为包括了相对于液体定义的特征。

在光刻设备中处理沉浸液体带来了一个或多个液体处理问题。间隙通常存在于诸如衬底和/或传感器之类的物体与物体(例如衬底和/或传感器)边缘周围的台(例如衬底台或测量台)之间。美国专利申请公开US2005-0264778公开了采用材料填充该间隙或者提供液体源或低压源以有意地采用液体填充间隙，以便于避免当间隙穿过液体供应系统之下时夹杂气泡和/或移除进入间隙的任何液体。

发明内容

例如希望的是提供从物体的边缘与物体位于其上的台之间的间隙移除液体。物体可以是衬底、传感器、封闭板等等。

根据一个方面，提供了一种用于支撑物体的载物台，包括：支撑本体，包括用于保持物体的物体保持器；开口，邻近物体保持器的边缘；以及通道，经由通路与开口流体连通，其中通道由与限定通路的第二材料不同的第一材料所限定。

根据一个方面，提供了一种操作沉浸式光刻设备的方法，包括：提供液体至由台支撑的物体上；以及通过经由通路与通道流体连通的开口从物体的边缘移除液体，其中通道由与限定通路的第二材料不同的第一材料所限定。