[发明专利]用于控制传输穿过锥形石英拱形结构的光的光学系统

说明书

技术领域

本发明的实施例大体涉及用于加热基板的设备，比如半导体基板。

背景技术

半导体基板被处理以用于各种各样的应用，包括集成器件与微器件的制造。处理基板的一种方法包括沉积材料(比如介电材料或导电金属)于基板的上表面上。可通过使工艺气体平行于位于支撑件上的基板的表面流动且将工艺气体热分解以从所述气体沉积材料于基板表面上来在横向流动腔室(lateral flow chamber)中沉积所述材料。因为已加热的基板会促进工艺气体的热分解，所以为了在基板上产生均匀沉积，期望具有均匀的基板温度。基板温度的不均匀可能导致基板上的不均匀材料沉积，这最终会影响最终所制造的器件的性能。

因此，对用于均匀加热基板的设备有需要。

发明内容

本文所述的实施例大体涉及用于加热基板的设备。所述设备通常包括处理腔室，所述处理腔室具有基板支撑件于所述处理腔室中。多个灯被定位以提供穿过光学透明拱形结构的辐射能量至位于所述基板支撑件上的基板。聚光组件定位于所述腔室内，用以影响所述基板上的加热及温度分布，并且用以促进在基板上形成具有均匀特性的膜，所述特性比如密度。所述聚光组件能包括一或更多个反射器、光管或折射透镜。

在一个实施例中，处理腔室包括腔室主体，所述腔室主体包括光学透明拱形结构。基板支撑件设置于所述腔室主体内。多个灯设置成相邻于所述光学透明拱形结构。聚光组件位于所述腔室主体内在所述多个灯与基板之间，所述基板位于所述基板支撑件上。所述聚光组件适用于影响从所述多个灯发射的辐射能量。

在另一实施例中，处理腔室包括腔室主体，所述腔室主体包括光学透明拱形结构。基板支撑件设置于所述腔室主体内。所述基板支撑件具有从所述基板支撑件延伸的支撑轴，所述支撑轴具有空腔(hollow cavity)于所述支撑轴中。多个灯设置成相邻于所述光学透明拱形结构。聚光组件位于所述腔室主体内在所述光学透明拱形结构与所述基板支撑件之间。所述聚光组件接触所述光学透明拱形结构的上表面，且所述聚光组件适用于影响从所述多个灯发射的辐射能量。

在另一实施例中，光学组件包括多个同心环，所述多个同心环由光学透明材料形成。每一同心环具有空腔于同心环中。反射材料设置于这些同心环的所述空腔内，且多个折射元件耦接相邻的同心环。

附图说明

为了能够详细理解本发明的上述特征，可通过参考实施例获得以上简要概述的本发明的更具体的描述，实施例的一些实施例示于附图中。但是，应注意到，附图只示出本发明的典型实施例且因此不应被视为对本发明范围的限制，因为本发明可允许其他等同效果的实施例。

图1为根据本发明的一个实施例的处理腔室的示意截面图。

图2A与图2B为根据本发明的一个实施例的聚光组件的示意例示图。

图3A-3D为根据本发明的其他实施例的聚光组件的示意例示图。

图4例示根据本发明的另一实施例的聚光组件。

图5例示根据本发明的另一实施例的聚光组件。

图6例示根据本发明的另一实施例的聚光组件。

图7例示根据本发明的另一实施例的聚光组件。

图8A与图8B为根据本发明的一个实施例的环的立体图。

为了帮助理解，已尽可能使用相同的标记数字来表示附图中共有的相同元件。应了解到，一个实施例的元件与特征可有利地并入其他实施例中，而无需进一步详述。

具体实施方式

本文所述的实施例大体涉及用于加热基板的设备。所述设备通常包括处理腔室，所述处理腔室具有基板支撑件于所述处理腔室中。多个灯被定位以提供穿过光学透明拱形结构的辐射能量至位于基板支撑件上的基板。聚光组件位于光学透明拱形结构与基板支撑件之间，用以影响基板上的加热及温度分布，并且用以促进在基板上形成具有均匀特性的膜，所述特性比如密度。聚光组件能包括一或更多个反射器、光管或折射透镜。