[发明专利]复合树脂组合物及其用途、用立体石印术制备牙组件的方法有效
申请号: | 201380018791.4 | 申请日: | 2013-04-11 |
公开(公告)号: | CN104246606B | 公开(公告)日: | 2019-05-10 |
发明(设计)人: | W·瓦赫特;J·艾伯特;D·沃瑟;N·莫斯奈尔;V·莱因伯格尔;J·斯代姆普夫尔 | 申请(专利权)人: | 义获嘉伟瓦登特公司;维也纳科技大学 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/029;A61K6/083;A61C13/00;G03F7/027 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 郭广迅 |
地址: | 列支敦*** | 国省代码: | 列支敦士登;LI |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复合 树脂 组合 及其 用途 立体 石印 制备 组件 方法 | ||
1.一种复合树脂组合物用于立体石印制备基于复合树脂的牙科成型件的用途,所述复合树脂组合物包含:
(a)至少一种聚合反应性粘合剂,
(b)在小于400nm的波长处具有最大吸收的第一光聚合引发剂,所述第一光聚合引发剂选自氧化膦、苯偶姻、苯偶酰缩酮、乙酰苯、二苯甲酮、噻吨酮及其混合物,
(c)在至少400nm的波长处具有最大吸收的第二光聚合引发剂,所述第二光聚合引发剂选自α-二酮、酰基锗化合物、茂金属及其混合物,和
(d)在小于400nm的波长处具有最大吸收的吸收剂,所述吸收剂选自苯并三唑、三嗪、二苯甲酮、氰基丙烯酸酯、水杨酸衍生物、受阻胺光稳定剂、无机盐及其混合物。
2.根据权利要求1所述的用途,其中,所述第一光聚合引发剂的具有最长波长的最大吸收在300至小于400nm的波长处。
3.根据权利要求2所述的用途,其中,所述第一光聚合引发剂的具有最长波长的最大吸收在330至小于400nm的波长处。
4.根据权利要求3所述的用途,其中,所述第一光聚合引发剂的具有最长波长的最大吸收在345至小于400nm的波长处。
5.根据权利要求4所述的用途,其中,所述第一光聚合引发剂的具有最长波长的最大吸收在360至小于400nm的波长处。
6.根据权利要求1所述的用途,其中,所述第二光聚合引发剂的具有最长波长的最大吸收在400至600nm的波长处。
7.根据权利要求6所述的用途,其中,所述第二光聚合引发剂的具有最长波长的最大吸收在400至500nm的波长处。
8.根据权利要求7所述的用途,其中,所述第二光聚合引发剂的具有最长波长的最大吸收在420至480nm的波长处。
9.根据权利要求1所述的用途,其中,所述吸收剂的具有最长波长的最大吸收在300至小于400nm的波长处。
10.根据权利要求9所述的用途,其中,所述吸收剂的具有最长波长的最大吸收在330至小于400nm的波长处。
11.根据权利要求10所述的用途,其中,所述吸收剂的具有最长波长的最大吸收在345至小于400nm的波长处。
12.根据权利要求11所述的用途,其中,所述吸收剂的具有最长波长的最大吸收在360至小于400nm的波长处。
13.根据权利要求1所述的用途,其中,所述第一和第二光聚合引发剂的最大吸收波长之差为至少5nm。
14.根据权利要求13所述的用途,其中,所述第一和第二光聚合引发剂的最大吸收波长之差为至少10nm。
15.根据权利要求14所述的用途,其中,所述第一和第二光聚合引发剂的最大吸收波长之差为至少15nm。
16.根据权利要求1所述的用途,其中,所述第一光聚合引发剂选自酰基和二酰基氧化膦、苯偶姻、苯偶姻烷基醚、苯偶酰二烷基缩酮、α-羟基乙酰苯、α-二烷氧基乙酰苯、α-氨基乙酰苯、烷基噻吨酮及其混合物。
17.根据权利要求16所述的用途,其中,所述第一光聚合引发剂选自2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦及其混合物。
18.根据权利要求1所述的用途,其中,所述第二光聚合引发剂选自α-二酮、单酰基和二酰基锗化合物、环戊二烯钛及其混合物。
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