[发明专利]一种彩膜基板及其制作方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

彩膜基板是一种薄膜晶体管-液晶显示器中用以显示颜色的光学滤光结构。隔垫物位于彩膜基板上，用来决定彩膜基板和阵列基板之间的间隙，以保持最佳液晶层厚度。为了得到对比度高、视角宽、响应快的液晶面板，应选择尺寸接近、分布均匀的隔垫物。

隔垫物按形貌可分为球状隔垫物、棒状隔垫物、柱状隔垫物等。其中，柱状隔垫物具有尺寸易于控制、对比度高、均匀性佳、高耐久度、与球状隔垫物或棒状隔垫物相比不易出现拖尾效应等优点，因而得到广泛使用。为了起到最佳的支撑作用，柱状隔垫物进一步分为主要柱状隔垫物和次要柱状隔垫物，二者之间具有合适的高度差。

目前，柱状隔垫物的制作主要有两种方法：使用普通掩膜板进行曝光或者使用半透膜掩膜板曝光技术。其中，使用普通掩膜板时，将柱状隔垫物设计成不同尺寸，次要柱状隔垫物的尺寸较小，通过控制掩膜板开口大小可以控制曝光量的大小，从而实现主要柱状隔垫物和次要柱状隔垫物的高度差，但是二者高度差只有在主要柱状隔垫物和次要柱状隔垫物的尺寸相差较大时才能实现，在这样的条件下，由于主要隔垫物和次要隔垫物尺寸相差较大，使得形成的主要隔垫物和次要隔垫物上表面形貌也有较大差异，主要隔垫物表面形貌较平整，而次要隔垫物由于尺寸较小，表面比较粗糙，有凹凸不平的现象出现，这种形貌的不均匀性会对隔垫物的支撑效果产生直接的影响；而使用半透膜掩膜板时，虽然主要柱状隔垫物和次要柱状隔垫物的尺寸可以很接近，但是成本较高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种彩膜基板及其制作方法，能够降低彩膜基板的制作成本，同时使彩膜基板上较容易形成具有高度差异而尺寸接近的主要隔垫物和次要隔垫物，且两种隔垫物的形貌更加均匀，能起到更好的支撑效果，提高了显示品质。

为解决上述技术问题，本发明提供的一种彩膜基板的制作方法采用如下技术方案：

一种彩膜基板的制作方法，包括：

通过构图工艺在基板上制作黑矩阵图形和彩色光阻图形，其中，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，所述主区域垂直于栅线方向的宽度大于所述辅区域垂直于栅线方向的宽度；

在所述彩色光阻图形和所述黑矩阵图形上制作平坦层；

在所述平坦层上制作隔垫物，所述隔垫物包括主要隔垫物和次要隔垫物，其中，所述主要隔垫物位于所述黑矩阵图形的主区域上，所述次要隔垫物位于所述黑矩阵图形的辅区域上，所述主要隔垫物的高度大于所述次要隔垫物的高度。

所述平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，包括：

任意一行平行于栅线方向的所述黑矩阵图形包括所述主区域和/或所述辅区域。

所述主区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述主要隔垫物的宽度，所述辅区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述次要隔垫物的宽度。

所述在所述平坦层上制作隔垫物的步骤包括：

在所述平坦层上涂布光刻胶；

利用隔垫物掩膜板，对所述光刻胶进行曝光显影处理，以形成所述主要隔垫物和所述次要隔垫物，其中，所述隔垫物掩膜板具有对应所述主要隔垫物的第一开口和对应所述次要隔垫物的第二开口，所述第一开口的尺寸大于所述第二开口的尺寸。

所述制作方法还包括：在基板上未设置有所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形的一面形成透明导电薄膜。

利用如上所述的彩膜基板的制作方法制作彩膜基板，在制作过程中使用普通掩膜板即可，制作成本低，同时由于黑矩阵图形的主区域的垂直于栅线方向的宽度大于黑矩阵图形的辅区域的垂直于栅线方向的宽度，使得主要隔垫物和次要隔垫物所在位置的平坦程度不同，且由于主要隔垫物所在位置的黑矩阵图形的宽度大，进而，主要隔垫物处形成的平坦层的高度也比次要隔垫物处平坦层的高度高。因此，在掩膜板上主要隔垫物和次要隔垫物掩膜板开口尺寸相差较小的情况下，进行曝光，便能在彩膜基板上较容易形成具有高度差异而尺寸接近的主要隔垫物和次要隔垫物，且两种隔垫物的形貌更加均匀，能起到更好的支撑效果，提高了显示品质。

本发明实施例还提供了一种彩膜基板，该彩膜基板包括：

黑矩阵图形，其中，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，所述主区域垂直于栅线方向的宽度大于所述辅区域垂直于栅线方向的宽度；

彩色光阻图形；

平坦层，位于所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形上；