[发明专利]一种彩膜基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

通过构图工艺在基板上制作黑矩阵图形和彩色光阻图形，其中，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，所述主区域垂直于栅线方向的宽度大于所述辅区域垂直于栅线方向的宽度；

在所述彩色光阻图形和所述黑矩阵图形上制作平坦层，使所述主区域对应的平坦层的高度大于辅区域对应的平坦层的高度，并使所述主区域对应的平坦层的平坦程度大于辅区域对应的平坦层的平坦程度；

在所述平坦层上制作隔垫物，所述隔垫物包括主要隔垫物和次要隔垫物，其中，所述主要隔垫物位于所述黑矩阵图形的主区域上，所述次要隔垫物位于所述黑矩阵图形的辅区域上，所述主要隔垫物的高度大于所述次要隔垫物的高度；

所述主区域垂直于栅线方向的宽度为：在经过所述主要隔垫物且垂直于栅线的方向上，位于相邻的两个子像素之间的黑矩阵图形的宽度；所述辅区域垂直于栅线方向的宽度为：在经过所述次要隔垫物且垂直于栅线的方向上，位于相邻的两个子像素之间的黑矩阵图形的宽度；

所述在所述平坦层上制作隔垫物的步骤包括：

在所述平坦层上涂布光刻胶；

利用隔垫物掩膜板，对所述光刻胶进行曝光显影处理，以形成所述主要隔垫物和所述次要隔垫物，其中，所述隔垫物掩膜板具有对应所述主要隔垫物的第一开口和对应所述次要隔垫物的第二开口，所述第一开口的尺寸大于所述第二开口的尺寸。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，包括：

任意一行平行于栅线方向的所述黑矩阵图形包括所述主区域和/或所述辅区域。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述主区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述主要隔垫物的宽度，所述辅区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述次要隔垫物的宽度。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：在基板上未设置有所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形的一面形成透明导电薄膜。

5.一种彩膜基板，其特征在于，使用如权利要求1～4任一项所述的彩膜基板的制作方法制作形成，所述彩膜基板包括：

黑矩阵图形，其中，平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，所述主区域垂直于栅线方向的宽度大于所述辅区域垂直于栅线方向的宽度；

彩色光阻图形；

平坦层，位于所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形上，其中，所述主区域对应的平坦层的高度大于辅区域对应的平坦层的高度，所述主区域对应的平坦层的平坦程度大于辅区域对应的平坦层的平坦程度；

主要隔垫物和次要隔垫物，形成于所述平坦层之上，其中，所述主要隔垫物位于所述黑矩阵图形的主区域上，所述次要隔垫物位于所述黑矩阵图形的辅区域上，所述主要隔垫物的高度大于所述次要隔垫物的高度；

所述主区域垂直于栅线方向的宽度为：在经过所述主要隔垫物且垂直于栅线的方向上，位于相邻的两个子像素之间的黑矩阵图形的宽度；所述辅区域垂直于栅线方向的宽度为：在经过所述次要隔垫物且垂直于栅线的方向上，位于相邻的两个子像素之间的黑矩阵图形的宽度。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述平行于栅线方向的黑矩阵图形包括主区域和辅区域，包括：

任意一行平行于栅线方向的所述黑矩阵图形包括所述主区域和/或所述辅区域。

7.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述主区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述主要隔垫物的宽度，所述辅区域平行于栅线方向的长度大于或等于所述次要隔垫物的宽度。

8.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：基板上未设置有所述黑矩阵图形和所述彩色光阻图形的一面设置的透明导电薄膜。

9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求5-8任一项所述的彩膜基板。