[发明专利]ESD保护电路在审

专利信息
申请号: 201310572320.X 申请日: 2013-11-15
公开(公告)号: CN103633071A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 吴达军 申请(专利权)人: 四川长虹电器股份有限公司
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60
代理公司: 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 代理人: 刘世平
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: esd 保护 电路
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种保护电路,尤其是涉及一种ESD保护电路。

背景技术

随着电子技术的不断发展,ESD(Electro-Static discharge,静电释放)已经成为电子系统中愈发重要的问题。ESD会导致电子系统中的物理元件发生功能性、可靠性和质量潜在的或持久的损害。因此,ESD保护电路的设计和测试验证技术已成为目前集成电路设计与开发的一个重要课题。

在具体的电路设计和应用中,开发者通常需要根据实际情况设计不同类型和结构的ESD保护电路,以满足实际的应用要求和ESD测试标准。目前,用于ESD保护的器件主要有压敏电阻、聚合物、电感、电容、瞬态电压抑制器(TVS)、二极管、GGMOS(Gate-Grounded-MOSFETG)等。然而目前并没有合适的ESD保护电路可以对功率集成电路的电源和地之间进行有效的ESD保护。

而且IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor,绝缘栅双极型晶体管),是由BJT(双极型三极管)和MOS(绝缘栅型场效应管)组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件,兼有MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,金属-氧化层-半导体-场效晶体管)的高输入阻抗和GTR(Giant Transistor,大功率晶体管)的低导通压降两方面的优点。GTR饱和压降低,载流密度大,但驱动电流较大;MOSFET驱动功率很小,开关速度快,但导通压降大,载流密度小。IGBT综合了以上两种器件的优点,驱动功率小而饱和压降低。非常适合应用于直流电压为600V及以上的变流系统如交流电机、变频器、开关电源、照明电路、牵引传动等领域。可以考虑将IGBT应用到ESD保护电路中。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种可靠有效的ESD保护电路。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:ESD保护电路,包括电源电压输入端、接地端及二极管,所述二极管的正极与接地端相连,其负极与电源电压输入端相连,还包括绝缘栅双极型晶体管,所述绝缘栅双极型晶体管的源极与二极管的正极相接,其栅极与接地端相连,其漏极与电源电压输入端相连。

进一步的,所述绝缘栅双极型晶体管为N沟道绝缘栅双极型晶体管。

进一步的,所述二极管为高压二极管。

优选的,所述二极管为至少两个相互并联的二极管。

优选的,所述绝缘栅双极型晶体管为至少两个相互并联的绝缘栅双极型晶体管。

本发明的有益效果是:由于充分利用了IGBT能承受大电流、触发后启动快的特点,本发明能够更可靠有效地保护集成电路内部器件,此外本电路的结构简单,成本低廉,易于实现。本发明适用于集成电路,尤其适用于功率集成电路。

附图说明

图1是本发明的结构示意图;

其中,D为二极管,T为绝缘栅双极型晶体管,VD为电源电压输入端,VS为接地端。

具体实施方式

下面结合附图,详细描述本发明的技术方案。

如图1所示,本发明的ESD保护电路,包括电源电压输入端VD、接地端VS及二极管D,所述二极管D的正极与接地端VS相连,其负极与电源电压输入端VD相连,还包括绝缘栅双极型晶体管T,所述绝缘栅双极型晶体管T的源极与二极管D的正极相接,其栅极与接地端VS相连,其漏极与电源电压输入端VD相连。

为了增强对电子系统的保护能力,所述绝缘栅双极型晶体管T的类型为N沟道绝缘栅双极型晶体管,即NIGBT。由于此ESD保护电路是集成在功率芯片内部的,通常是根据实际需要,并结合芯片代工厂的工艺条件,设计出器件的结构和相关物理参数,主要包括:沟道长度、沟道宽度和飘移区长度等器件物理参数和反向击穿电压等电学参数。例如,可设计为反向击穿电压为230V的。

考虑到实际应用时本电路的需要,为了增强对电子系统的保护能力,二极管D为高压二极管。由于此ESD保护电路是集成在功率芯片内部的,通常是根据实际需要,并结合芯片代工厂的工艺条件,设计出器件的结构和相关物理参数,主要包括:沟道长度、沟道宽度和飘移区长度等器件物理参数和反向击穿电压等电学参数。例如,可设计高压二极管的反向击穿电压为230V。在实际应用中,考虑到器件工艺的兼容性,也可以采用栅源接地的功率MOSFET作二极管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川长虹电器股份有限公司,未经四川长虹电器股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310572320.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top