[发明专利]一种对RRAM存储器脉冲参数进行测试的方法无效

专利信息
申请号: 201310474111.1 申请日: 2013-10-12
公开(公告)号: CN103531248A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 龙世兵;王国明;张美芸;李阳;吕杭炳;刘琦;刘明 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G11C29/56 分类号: G11C29/56
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 rram 存储器 脉冲 参数 进行 测试 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及半导体存储器测试领域,尤其涉及一种对RRAM存储器脉冲参数进行测试的方法。

背景技术

阻变存储器,即在两个电阻态之间可以相互转换的存储器,是下一代非挥发性存储器中具有潜在应用的前景的存储器。然而,在实际应用中所面临的最重要的挑战之一就是其转变参数的涨落。很好地控制这些参数的变化能够降低阻变器件的波动性,提高器件可靠性。其中针对RRAM存储器件的存取过程,都是以脉冲的形式进行读写的,脉冲操作是存储器在应用中的实际操作方法。存储器脉冲参数主要包括存储器状态(高阻态或低阻态)、编程速度和擦除速度等。

现有技术中对RRAM存储器脉冲参数的测试方法如图3所示,主要包括以下步骤:首先用脉冲源发送一个足够长的编程或擦除脉冲,然后示波器捕:示波器第一通道测试RRAM上的脉冲,示波器第二通道测试RRAM与定值电阻串联支路的脉冲。测试的过程中编程或擦除速度是离散分布的,脉冲宽度过长,会造成器件损坏。用示波器手动捕获,误差较大且效率极低,测试统计过程需要大量的时间和人力。

基于上述现有技术中对RRAM存储器脉冲参数的测试方法,可以看出传统的测试方法急需改进。

目前在实验室中对这类新型器件的特性进行分析过程中,由于专用的半导体参数分析仪仅提供单独的编程和擦除操作,并且只能人为切换开关矩阵,读取RRAM器件的阻值,判断当前器件的状态,无法进行对器件的自动化测试。即使有些设备具有一定的自动化测试功能,由于其在编程和擦除条件的限制,无法一次性完成编程或擦除测试,也不能自动提取编程或擦除转变时间参数。这里RRAM器件的结构如图1所示,由上电极、下电极、阻变功能层构成。图2是RRAM器件在直流扫描情况下编程和擦除的变化曲线。

发明内容

(一)要解决的技术问题

为解决上述问题,本发明提供了一种对RRAM存储器脉冲参数进行测试的方法,以方便快速自动的获取存储器件恒定电压幅度的编程速度、擦除速度参数,以及得到编程速度、擦除速度随电压幅度变化规律。

(二)技术方案

为达到上述目的,本发明提供了一种对RRAM存储器脉冲参数进行测试的方法,该方法包括:判断RRAM器件当前所处的状态,然后在一定电压下根据RRAM器件所处状态产生脉冲宽度L1=L的擦除脉冲或脉冲宽度H1=H的编程脉冲对RRAM器件进行擦除或编程操作,在擦除或编程操作后再次判断RRAM所处状态,直至RRAM器件所处状态发生改变,否则产生脉冲宽度Ln=L+(n-1)ΔL的擦除脉冲或脉冲宽度Hn=H+(n-1)ΔH的编程脉冲对RRAM器件进行擦除或编程操作,n为自然数,记录最后使RRAM器件状态发生改变的脉冲宽度Ln或Hn,即得到擦除速度或编程速度。

上述方案中,所述判断RRAM器件当前所处的状态,包括:对RRAM器件加载一个小电压,读出通过RRAM器件的电流,根据读出的电流即可判断RRAM器件当前所处的状态是高阻态还是低阻态。

上述方案中,如果RRAM器件当前所处的状态是高阻态,则在一定电压下,脉冲发生器产生一脉冲宽度L1=L的擦除脉冲并加载至RRAM器件,然后判断RRAM器件的状态,如果RRAM器件处于高阻态,则脉冲发生器产生一脉冲宽度L2=L+ΔL的擦除脉冲并加载至RRAM器件,再次判断RRAM器件的状态,如果RRAM器件仍处于高阻态,则脉冲发生器产生一脉冲宽度L3=L+2ΔL的擦除脉冲并加载至RRAM器件,直至RRAM器件变为低阻态,记录使RRAM器件变为低阻态的脉冲宽度,该脉冲宽度即为擦除速度。该方法还同时记录下全部脉冲宽度。

上述方案中,如果RRAM器件当前所处的状态是低阻态,则在一定电压下,脉冲发生器产生一脉冲宽度H1=H的编程脉冲并加载至RRAM器件,然后判断RRAM器件的状态,如果RRAM器件处于低阻态,则脉冲发生器产生一脉冲宽度H2=H+ΔH的编程脉冲并加载至RRAM器件,再次判断RRAM器件的状态,如果RRAM器件仍处于低阻态,则脉冲发生器产生一脉冲宽度H3=H+2ΔH的编程脉冲并加载至RRAM器件,直至RRAM器件变为高阻态,记录使RRAM器件变为高阻态的脉冲宽度,该脉冲宽度即为编程速度。该方法还同时记录下全部脉冲宽度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310474111.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top