[发明专利]一种长波铟砷锑材料及其生长方法有效
申请号: | 201310397546.0 | 申请日: | 2013-09-04 |
公开(公告)号: | CN103436964A | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 高玉竹 | 申请(专利权)人: | 高玉竹 |
主分类号: | C30B29/52 | 分类号: | C30B29/52;C30B19/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 上海市嘉定区南翔镇*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 长波 铟砷锑 材料 及其 生长 方法 | ||
1.一种长波铟砷锑材料,按以下化学式组成:InAs1-xSbx,其特征在于组份x满足以下条件:0.60≤x≤0.90,外延层的厚度为40~200μm。
2.一种制备上述长波铟砷锑材料的专用滑动舟,包括底板、滑块、推杆、原料井、空井、井盖、衬底槽,其特征在于原料井、空井设置在滑块前部,原料井、空井为贯通的中空结构,滑块的尾部为平底的压块,原料井、空井上设置井盖,滑块后端连接推杆,滑块放置在底板上并可以在底板上移动,底板上设置有衬底槽,滑块尾部的压块与底板接触部分大于衬底槽横截面。
3.一种长波铟砷锑材料的生长方法,主要包括以下步骤:
一、生长准备,把滑块放置在底板上,打开原料井的井盖,然后将InAs1-xSbx的原料放入原料井中,将衬底(基板)放入底板上的衬底槽内,把空井放置在衬底槽的上方;
二、原料溶化,将滑动舟放入液相外延系统,在680℃下停留1小时,使InAs1-xSbx的原料溶化成生长熔液,然后,使系统的温度以1℃/分钟的降温速率下降至生长温度510℃;
三、充填,通过推杆推动滑块,使原料井位于衬底槽上方,使InAs1-xSbx的生长熔液与衬底接触,再通过推杆推动滑块,使原料井中的InAs1-xSbx生长熔液残留部分在衬底的表面,并使原料井与衬底槽错开,滑块尾部的压块完全盖住衬底槽;
四、熔体外延生长,以0.5℃/分钟的降温速率降温10℃,使衬底上残留的InAs1-xSbx生长熔液在滑块尾部的压块下降温结晶,即可生长出长波铟砷锑材料。
4.根据权利要求3所述一种长波铟砷锑材料的生长方法,其特征在于所述衬底材料为砷化铟(InAs)、砷化镓(GaAs)、锑化镓(GaSb)、磷化铟(InP)中的一种。
5.一种长波铟砷锑材料的后处理过程,其特征在于生长后的铟砷锑样品通过使用三氧化二铝(Al2O3)粉末研磨、抛光,即可获得具有镜面光滑、平整的表面的长波铟砷锑材料。
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