[发明专利]阵列基板及显示装置在审
| 申请号： | 201310331981.3 | 申请日： | 2013-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN103400822A | 公开（公告）日： | 2013-11-20 |
| 发明（设计）人： | 刘翔 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/532 | 分类号： | H01L23/532;H01L23/525;H01L27/02 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;程美琼 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 阵列 显示装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种阵列基板，包括基板和所述基板上的金属图案，其特征在于，所述金属图案包括由Al和第二金属的混合物形成的金属层，所述金属层中第二金属与Al的含量比低于1/99。
2.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二金属与Al的含量比在1/999-1/199之间。
3.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述金属图案为双层结构，其中，第一层为所述金属层；第二层由Mo组成。
4.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述金属图案为依次叠加的三层结构，其中，第一层由Mo组成；第二层为所述金属层；第三层由Mo、Ti或Ta组成。
5.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述第二金属为Nd、Ti、Zr、Ta、Sc或者Cu。
6.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述金属图案为栅电极、栅极扫描线、数据扫描线、源电极、漏电极中的至少一种。
7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一所述的阵列基板。
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