[发明专利]带光反射层的半导体发光器件有效
申请号: | 201310307147.0 | 申请日: | 2013-07-19 |
公开(公告)号: | CN103390713A | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 李刚 | 申请(专利权)人: | 李刚 |
主分类号: | H01L33/46 | 分类号: | H01L33/46 |
代理公司: | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 张约宗;张秋红 |
地址: | 广东省深圳市南山区西丽*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射层 半导体 发光 器件 | ||
1.一种带光反射层的半导体发光器件,包括具有第一表面和第二表面的基板,所述第一表面上设有半导体发光芯片;其特征在于,所述半导体发光芯片至少有一表面和/或侧面为出光表面,除所述出光表面外,所述半导体发光芯片的其它表面和侧面被至少一光反射层所包裹。
2.根据权利要求1所述的带光反射层的半导体发光器件,其特征在于,所述光反射层包括非金属基光反射层和金属基光反射层中的一种或多种组合。
3.根据权利要求1或2所述的带光反射层的半导体发光器件,其特征在于,所述半导体发光芯片包括至少一半导体叠层,所述半导体叠层至少包括依次叠设的n型导电层、发光层和p型导电层;所述半导体叠层上设有至少一与所述n型导电层导电连接的n型电极和至少一与所述p型导电层导电连接的p型电极;在所述p型导电层表面至少有一裸露出部分n型导电层的n型电极凹陷,所述n型电极设在所述n型电极凹陷内;所述半导体叠层以所述p型导电层朝向所述基板设置在所述基板的第一表面上;
所述n型导电层背向所述基板的表面为所述半导体发光芯片的出光表面,所述光反射层包裹在除所述出光表面外的所述半导体叠层表面和四周侧面上,至少一所述p型电极和至少一所述n型电极裸露出所述光反射层表面。
4.根据权利要求3所述的带光反射层的半导体发光器件,其特征在于,所述出光表面还包括所述半导体叠层的四周侧面的部分或全部。
5.根据权利要求3所述的带光反射层的半导体发光器件,其特征在于,所述光反射层内形成有n型电极互连层,所述n型电极互连层与至少一所述n型电极导电连接;和/或,所述光反射层内形成有p型电极互连层,所述p型电极互连层与至少一所述p型电极导电连接;
所述n型电极互连层和p型电极互连层彼此绝缘。
6.根据权利要求3所述的带光反射层的半导体发光器件,其特征在于, 所述p型导电层表面的部分或全部设有至少一p型电流扩展层,至少有一所述p型电极与所述p型电流扩展层导电连接;所述光反射层包裹部分或全部所述p型电流扩展层;和/或,
所述n型导电层表面的部分或全部设有至少一n型电流扩展层,至少有一所述n型电极与所述n型电流扩展层导电连接;所述光反射层包裹部分或全部所述n型电流扩展层。
7.根据权利要求6所述的带光反射层的半导体发光器件,其特征在于,所述p型电流扩展层包括p型透光电流扩展层和p型金属基电流扩展反射层中的一种或多种组合;所述p型透光电流扩展层包括ZnO、ITO、重掺p型导电层中的一种或多种组合,所述p型金属基电流扩展反射层包括p型金属扩散阻挡层、p型导电扩展层、p型光反射层、p型接触层中的一种或多种组合;
所述n型电流扩展层包括n型透光电流扩展层和n型金属基电流扩展反射层中的一种或多种组合;所述n型透光电流扩展层包括ZnO、ITO、重掺n型导电层中的一种或多种组合,所述n型金属基电流扩展反射层包括n型金属扩散阻挡层、p型导电扩展层、p型光反射层、p型接触层中的一种或多种组合。
8.根据权利要求6所述的带光反射层的半导体发光器件,其特征在于,所述光反射层与所述p型电流扩展层和/或n型电流扩展层之间设有至少一透光绝缘层。
9.根据权利要求3所述的带光反射层的半导体发光器件,其特征在于,所述基板第一表面设有至少一p型焊垫和至少一n型焊垫;
所述p型焊垫与裸露出所述光反射层的所述p型电极导电连接,所述n型焊垫与裸露出所述光反射层的所述n型电极导电连接;或,所述光反射层上设有至少一绝缘保护层,至少一所述p型电极裸露出所述绝缘保护层与所述p型焊垫导电连接,至少一所述n型电极裸露出所述绝缘保护层与所述n型焊垫导电连接。
10.根据权利要求9所述的带光反射层的半导体发光器件,其特征在于,在所述绝缘保护层内,设有至少一n型电极互连层,所述n型电极互连层与至少一位于所述n型电极互连层下方的n型电极导电连接、与至少一位于所述n型电极互连层上方的所述n电极导电连接;和/或,
在所述绝缘保护层内,设有至少一p型电极互连层,所述p型电极互连层与至少一位于所述p型电极互连层下方的p型电极导电连接、与至少一位于所述p型电极互连层上方的所述p电极导电连接;
所述n型电极互连层和p型电极互连层彼此绝缘。
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