[发明专利]喷淋头及化学气相沉积设备无效
申请号: | 201210580845.3 | 申请日: | 2012-12-26 |
公开(公告)号: | CN103074605A | 公开(公告)日: | 2013-05-01 |
发明(设计)人: | 乔徽 | 申请(专利权)人: | 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷淋 化学 沉积 设备 | ||
1.一种喷淋头,包括顶板和气体分配板,所述顶板与所述气体分配板之间限定气体扩散腔;所述气体分配板具有多个贯穿所述气体分配板的出气通道,所述出气通道连接所述气体扩散腔,其特征在于:所述喷淋头还包括隔板;所述隔板设置在所述顶板与所述气体分配板之间,所述隔板将所述气体扩散腔在平行所述气体分配板的平面上间隔成至少两个气体扩散区;至少两个进气管路分别独立向所述至少两个气体扩散区输入气体。
2.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述喷淋头呈圆盘或圆环型。
3.如权利要求2所述的喷淋头,其特征在于,所述至少两个气体扩散区依次相包绕。
4.如权利要求3所述的喷淋头,其特征在于,所述至少两个气体扩散区为至少两个相互包绕的圆盘或圆环区域。
5.如权利要求3所述的喷淋头,其特征在于,所述至少两个气体扩散区包括相邻的内气体扩散区和外气体扩散区,所述外气体扩散区围绕所述内气体扩散区,所述内气体扩散区具有沿所述喷淋头的径向向外的突出部,所述突出部的尺寸沿径向向外逐渐变小。
6.如权利要求5所述的喷淋头,其特征在于,所述内气体扩散区的外边缘呈星形、莲花形或紫荆花型。
7.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述隔板的材料为抗刻蚀材料。
8.如权利要求7所述的喷淋头,其特征在于,所述隔板的材料为陶瓷或不锈钢。
9.如权利要求7所述的喷淋头,其特征在于,所述隔板的材料为至少氢气分子能够透过,而分子大于氮气的气体分子不能够透过的材料。
10.如权利要求7所述的喷淋头,其特征在于,所述隔板的材料为特氟龙。
11.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,每个进气管路具有流量控制单元,所述流量控制单元用于控制所述进气管路输入对应气体扩散区的气体流量。
12.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述隔板与所述顶板或所述气体分配板一体成型。
13.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述隔板为可拆卸地安装在所述顶板与所述气体分配板之间。
14.如权利要求13所述的喷淋头,其特征在于,所述顶板和所述气体分配板夹持所述隔板,使得所述隔板固定在所述顶板与所述气体分配板之间。
15.一种喷淋头,包括顶板和气体分配板,所述顶板与所述气体分配板之间限定气体扩散腔;所述气体分配板具有多个贯穿所述气体分配板的出气通道,所述出气通道连接所述气体扩散腔,其特征在于:所述喷淋头还包括隔板;所述隔板设置在所述顶板与所述气体分配板之间,所述隔板将所述气体扩散腔在平行所述气体分配板的平面上间隔成至少两个气体扩散区;至少两个气体流量独立控制的进气管路分别向所述至少两个气体扩散区输入气体。
16.一种化学气相沉积设备,包括反应腔,所述反应腔包括设置在所述反应腔顶部的喷淋头和设置在所述反应腔底部且与所述喷淋头相对设置的承载台,所述承载台能够相对喷淋头旋转,其特征在于,所述喷淋头为如上述任意一项所述的喷淋头。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的