[发明专利]一种集成电路版图图形对齐方法在审

专利信息
申请号: 201210487664.6 申请日: 2012-11-26
公开(公告)号: CN103838492A 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 李志雄;李起宏 申请(专利权)人: 北京华大九天软件有限公司
主分类号: G06F3/0487 分类号: G06F3/0487;G06F17/50
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100102 北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 集成电路 版图 图形 对齐 方法
【说明书】:

技术领域

对齐(Align)是EDA工具中调整集成电路版图(IC Layout)图形,使得图形的点或边与另一个参考图形上的点或者边在X轴或Y轴方向对齐或者保持一定距离的操作。本发明属于EDA工具中版图设计领域。 

背景技术

绘制图形(如Path、Rectangle、Polygon、Instance、Guard Ring等),并使得图形之间有合适的相对尺寸和相对距离,是版图(layout)设计的基础工作,占有很大的工作量。帮助用户方便快捷的完成该工作也是EDA工具追求的目标。 

常规的方法,是通过EDA工具的移动(Move)修改图形位置、拖拽(Stretch)图形的点(Vertex)或边(Edge)来修改图形形状或尺寸。Move和Stretch操作由于没有考虑到图形之间的相互参照关系,只能靠版图设计者手动控制鼠标偏移量(Delta)来调整图形,往往难以和参考图形保持相对尺寸或相对距离,既不直观,也不符合版图设计者的思维,易用性差。 

从几何层面来看,Move的本质,是对图形上所有的点和边做一次相同偏移量(Delta)的整体偏移;Stretch的本质,则是对图形上一部分点或者边进行偏移,如果对图形全部点或边做Stretch操作,等同于做Move操作。因此,两者从本质上都是上对图形上的若干点或边做偏移。 

对齐(Align)操作,可以根据当前鼠标的位置,智能的提示被调整的图形以及要偏移的点和边,用户确认后,再根据鼠标位置提示参考图形以及偏移所要到达的目标位置(参考图形上的某个点或边),用户再次确认,就可以准确计算出偏移量,从而完成对图形的调整,实现Move或Stretch操作的效果。这种操作方式符合版图设计者的思维,直观、智能,操作简单,能大大提高EDA工具的易用性。 

发明内容

本发明公开一种使用对齐(Align)操作来调整集成电路版图图形,使得图形的点或边与另一个参考图形上的点或者边在X轴或Y轴方向对齐或者保持一定距离的方法。 

基本思想:在版图设计领域,调整图形使其与另一参考图形有合适的相对尺寸或相对距离,是很常用的操作。这种相对尺寸或相对距离,是有规律可循的,通常在几何上表现为:一个图形上的若干点或边,要与另一个参考图形上的点或者边在X轴或Y轴方向保持对齐或者相对距离(Space)。按照版图设计者的思维方式,Align操作通过两次交互完成这一目标:首 先根据当前鼠标位置,自动提示被调整的图形,并在图形上找到可以合适的点和边作为偏移的对象和偏移的起始位置,用户确认后;再根据鼠标位置,自动提示参考图形,在参考图形上找到点或边作为偏移的结束位置,并提示偏移量,用户再次确认。最后根据用户两次确认选取的图形以及点或边,计算出偏移量,调整图形。 

附图说明

图1    提示被调整图形以及偏移的起始点 

图2    提示参考图形上的边以及偏移量 

图3    图形被Move到指定的相对位置,边与边对齐,距离为0 

图4    提示被调整图形以及可偏移的边和偏移的起始点 

图5    输入距离,提示参考图形上的点以及偏移量 

图6    图形被Stretch到指定的相对位置,边与边距离为0.8 

具体实施步骤: 

对齐是个交互式操作,程序主动根据鼠标位置提示图形、点或边,以及偏移量。用户只需移动鼠标,确认图形、点和边、以及偏移量,就完成对图形的调整。操作流程步骤如下: 

1)针对不同版图图形(如Path、Rectangle、Polygon、Instance、Guard Ring等)的特点,约定可以偏移的点和边; 

2)针对不同版图图形的特点,约定可以用来当作参考的点和边; 

3)用户移动鼠标,实时根据鼠标位置,找到可以被调整图形;并根据1)中的约定在图形上的找到合适的可以调整的点或边,以及偏移的起始位置; 

4)用户移动鼠标,实时根据鼠标位置,找到可以参考图形;并根据2)中的约定在图形上的找到合适的点或边作为偏移的结束位置; 

5)程序根据用户两次确认选取的图形、点或边、用户指定的距离,计算出偏移量,调整图形。结束本次对齐操作。 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京华大九天软件有限公司,未经北京华大九天软件有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210487664.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top